用于光掩模清洗与制造工艺的先进系统

ASC9500

ASC9500 是 SUSS 面向成熟光掩模市场客户推出的全自动光掩模清洗系统。它将 172 nm VUV 表面预处理、最终清洗、热烘烤和干式翻转处理集成于同一平台。该系统基于我们成熟清洗系统中久经验证的技术，可在低至 38 nm 工艺节点的范围内提供可靠的工艺结果，并采用坚固耐用的长寿命设计，确保日常运行稳定。

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可靠的光掩模清洗，降低风险，延长运行时间

ASC9500 专为既需要当下可靠成果、又需要长期支持其运营的平台的客户而设计。它融合了成熟技术、更宽的工艺窗口，以及可简化安装与维护的设计。

扩展的工艺能力

与旧款 ASC5500 平台相比，ASC9500 凭借更宽、更稳健的工艺窗口，将工艺能力从 90 nm 工艺节点扩展至 38 nm 工艺节点。这使您能够在同一平台上以更大的工艺裕量服务成熟光掩模生产。

可持续的无酸清洗

获得专利的原位 UV 单元采用无酸工艺，清洗效果可与传统酸基清洗相媲美，同时减少化学品消耗并降低环境影响。此外，这一先进方法使清洗过程更为温和，可显著延长掩模寿命。

更易安装与维护

该平台提供充足的空间，可容纳所有组件。改进的设备基础设施缩短了安装和预防性维护 (PM) 时间，使您的设备能够更快上线并重新投入生产。

以安全为导向的设计

该平台依据 SEMI S2-0821、SEMI S8-0218、IEC 60204-1 及相关 NFPA 标准设计，并采用先进的 TwinSAFE 安全理念。所有工艺臂均配备防溅保护，有助于营造安全的工作环境。

专为工艺可靠性、安全性和易维护性而设计

ASC9500 的主要特点

KrF 和 ArF 节点的光掩模生产所需的不仅仅是去除颗粒。每片掩模离开清洗设备时，都必须不含颗粒、有机残留物和残留离子，同时在多次清洗循环中保持光掩模图案完整性、相位和透射率。ASC9500 通过在一个自动化平台上集成一套完整的成熟工艺模块，满足这些要求。

表面预处理

湿法化学制程只有在亲水表面上才能均匀发挥作用。ASC9500 集成的 172 nm VUV 照射可分解有机污染物并改善润湿性，从而在整个掩模区域实现可重复的清洗。

预清洗模块

可靠去除有机污染物和颗粒是每次清洗的基础。SPM 效率很高，但其硫酸盐残留会导致 Haze 缺陷，促使业界转向无酸替代方案。预清洗模块将成熟的 SPM 与获得专利的无酸 ISUV 工艺相结合，并提供纳米喷淋、Beam 和兆声波选项，可针对每种掩模类型定制工艺。

最终清洗模块

最终清洗需要在颗粒去除效率 (PRE) 与损伤 SRAF 等脆弱特征的风险之间取得平衡。由于没有任何单一物理方法适用于所有布局，最终清洗模块将 Beam、兆声波和液滴喷淋清洗相结合，使您能够根据每种应用匹配合适的清洗力。

干式翻转站

有效的掩模清洗需要同时覆盖带图案的正面和背面。每一次人工处理步骤都会增加污染或损坏的风险。集成的干式翻转站在自动化流程中以干燥状态翻转掩模。正反两面可在一次运行中完成处理，从而降低处理风险，并支持稳定、可重复的工艺流程。

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公司简介 & 产品组合

ASC9500 Technical Datasheet

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