포토마스크 세정 및 제조 공정을 위한 첨단 시스템

ASC9500

ASC9500은 성숙 포토마스크 시장의 고객을 위한 SUSS의 완전 자동 포토마스크 세정 시스템입니다. 172 nm VUV 표면 준비, 최종 세정, 핫 베이크, 드라이 플립 핸들링을 하나의 플랫폼에 통합했습니다. 당사의 확립된 세정 시스템에서 현장 검증을 거친 기술을 기반으로, 38 nm 기술 노드까지 신뢰할 수 있는 공정 결과를 제공하며, 일상적인 운영의 안정성을 위한 견고하고 수명이 긴 설계를 갖추고 있습니다.

전문가와 상담하기

리스크는 낮추고 가동 시간은 높이는 신뢰할 수 있는 포토마스크 세정

ASC9500은 오늘 믿을 수 있는 결과를 필요로 하면서, 장기적으로 운영을 뒷받침하는 플랫폼을 원하는 고객을 위해 설계되었습니다. 검증된 기술, 더 넓은 공정 윈도우, 그리고 설치와 유지보수를 간소화하는 설계를 결합했습니다.

확장된 공정 역량

기존 ASC5500 플랫폼과 비교하여, ASC9500은 더 넓고 견고한 공정 윈도우로 공정 역량을 90 nm에서 38 nm 기술 노드까지 확장합니다. 이를 통해 하나의 플랫폼에서 더 큰 공정 마진으로 성숙 포토마스크 생산을 지원할 수 있습니다.

지속 가능한 무산 세정

특허받은 인시츄 UV 유닛은 무산 공정을 사용하여 기존 산 기반 세정에 필적하는 결과를 제공하면서 화학물질 소비와 환경 영향을 줄입니다. 또한 이 첨단 방식은 더욱 부드러운 세정을 보장하여 마스크 수명을 크게 연장합니다.

더 쉬운 설치와 유지보수

이 플랫폼은 모든 구성 요소를 수용할 수 있는 충분한 공간을 제공합니다. 개선된 툴(Tool) 인프라가 설치 및 예방 정비(PM) 시간을 단축하므로, 고객의 툴(Tool)을 더 빠르게 가동하고 생산에 복귀시킬 수 있습니다.

안전을 고려한 설계

이 플랫폼은 SEMI S2-0821, SEMI S8-0218, IEC 60204-1 및 관련 NFPA 표준에 따라 설계되었으며, 최신 TwinSAFE 안전 콘셉트를 적용했습니다. 모든 공정 암에 적용된 스플래시 보호 기능이 안전한 작업 환경을 뒷받침합니다.

공정 신뢰성, 안전성, 서비스 용이성을 위해 설계

ASC9500 의 주요 특징

KrF 및 ArF 노드의 포토마스크 생산에는 파티클 제거 이상의 것이 요구됩니다. 모든 마스크는 파티클, 유기 잔류물, 잔류 이온이 없는 상태로 세정기를 나와야 하며, 동시에 많은 세정 사이클에 걸쳐 포토마스크 패턴 무결성, 위상, 투과율이 유지되어야 합니다. ASC9500은 검증된 공정 모듈의 완전한 시퀀스를 하나의 자동화 플랫폼에 구현하여 이러한 요구 사항을 충족합니다.

표면 준비

습식 화학 공정은 친수성 표면에서만 균일하게 작용합니다. ASC9500에 통합된 172 nm VUV 노광은 유기 오염물을 분해하고 젖음성을 개선하여, 마스크 전체 영역에서 재현 가능한 세정을 가능하게 합니다.

사전 세정 모듈

유기 오염물과 파티클을 확실하게 제거하는 것이 모든 세정의 기본입니다. SPM은 효율적이지만 황산염 잔류물이 헤이즈를 유발하여, 업계는 무산 대안으로 나아가고 있습니다. 사전 세정 모듈은 검증된 SPM과 특허받은 무산 ISUV 공정을 결합하고, 나노스프레이, 빔, 메가소닉 옵션을 제공하여 각 마스크 유형에 맞게 공정을 조정할 수 있습니다.

최종 세정 모듈

최종 세정은 파티클 제거 효율(PRE)과 SRAF 같은 취약한 피처가 손상될 위험 사이에서 균형을 맞춰야 합니다. 모든 레이아웃에 맞는 단일 물리적 방식은 없기 때문에, 최종 세정 모듈은 빔, 메가소닉, 액적 스프레이 세정을 결합하여 각 응용 분야에 맞는 세정력을 선택할 수 있도록 합니다.

드라이 플립 스테이션

효과적인 마스크 세정은 패턴이 형성된 전면과 후면을 모두 다룹니다. 수작업 핸들링 단계마다 오염이나 손상의 위험이 커집니다. 통합된 드라이 플립 스테이션은 자동화된 시퀀스 안에서 마스크를 건조 상태로 뒤집습니다. 양면을 한 번의 런으로 처리할 수 있어 핸들링 위험이 줄고, 안정적이며 반복 가능한 공정 흐름을 뒷받침합니다.