印模与基板对准设备

NIL-SFT12 系列 印模与基板对准工具

NIL-SFT12 系列压印工具可快速、精确地生产出具有出色图案保真度的高分辨率压印印模。NIL-SFT12 系列与 SUSS' 纳米压印设备配合使用，可实现可扩展的纳米压印制造、高对准精度、严格的 CD 控制和低单个印模成本。它专为生产而设计，可确保高良率并无缝集成到工业压印工作流程中。

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在创纪录的时间内完成高质量印模与基板对准

NIL-SFT12 系列可显著缩短加工时间。通过优化紫外线辐照度和整个曝光区域的出色光照均匀性，可将加工时间从数小时缩短至数分钟。该系统专为兼容各种紫外线固化材料而设计，可确保较高的工艺稳定性，最大限度地减少缺陷的形成，并支持可重复的高保真印模与基板对准。

新一代设备平面度

平面度公差的大幅缩减，使新型超平设备成为可能。从而减少了压印变化，降低了缺陷密度。这种设备以先进的材料、精密的制造工艺和合格的供应商网络为基础，可在晶圆规模上提供稳定、可重现的性能。

通过独立印模与基板对准，降低拥有成本。

专用的压印制造解决方案无需在压印生产过程中占用高价值的印模与基板对准系统。这就释放了关键的设备能力，提高了整体设备利用率，并显著降低了整个纳米压印生产流程的拥有成本。

适用于 12 英寸基板的印模与基板对准设备。

该系统专为大规模压印光刻而设计，将 200 毫米 NIL-SFT8 系列的成熟理念扩展到 300 毫米晶圆。它集可靠性、可扩展性和精确性于一身，可支持先进纳米压印应用的高吞吐量、高保真印模与基板对准制造。

适用于任何规模的精密印模与基板对准

NIL-SFT12 系列印模与基板对准设备的主要特点

精心设计的系统功能为超平、高保真印模与基板对准的优势提供了动力。了解使精确、高吞吐量和可靠的纳米压印印模生产成为可能的技术亮点。

出色的卡盘平面度

该系统的卡盘平面度高达 2 微米，可确保整个印模与基板对准区域的均匀接触和固化。这直接减少了未填充和残留空气等常见缺陷，从而提高了良率，实现了始终可靠的纳米压印效果。

高强度

该系统的功率高达 200 mW/cm²，均匀度优于 ±5%，可实现快速、精确控制的固化。与传统汞灯不同，它能提供一致的效果，不会出现热点或曝光不均的情况，从而提高了工艺可靠性和印模与基板对准的质量。

紫外线和热敏印模与基板对准的双重制造能力

这种灵活的系统同时支持 UV 和热敏印模与基板对准，其可升级模块可适应不断变化的工艺要求。它可简化操作、减少设备占地面积，并实现不同工艺类型之间的无缝转换。

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