手动掩模对准机

MJB4 掩模对准机

MJB4 是用于研究和小批量生产的理想手动掩模对准机。该系统结构紧凑、使用方便、成本效益高，具有可靠的高精度掩模对准机和高分辨率印刷能力，适用于最大 100 毫米的基板和工件。

咨询专家

以精度和多功能性增强研究能力

MJB4 将久经考验的光刻性能与工艺多功能性相结合，适用于研究和小批量生产。该系统支持易碎材料和 UV-NIL，其亚微米分辨率和快速的基底转换使其成为一种具有成本效益的解决方案。 允许 探索新的应用，并获得可靠的结果。

每道工序的精度

精确的对准和高质量的结果适用于广泛的应用，灵活的曝光模式，包括软曝光、硬曝光和真空曝光，结合高分辨率光学系统和 SUSS' 显微镜，可提供从 2 微米到小于 0.5 微米的分辨率。

设计具有成本效益

MJB4 专为大学和小规模生产而设计，兼具经济实惠和稳定的性能。其紧凑的设计、快速的设置、配置升级和可靠的运行确保了快速的投资回报，使该系统成为灵活的研发实验室具有成本效益和灵活性的选择。

多才多艺的平版印刷先锋

作为首批掩模对准机之一，MJB4 平台在研究和小批量生产领域树立了行业标准。该系统配备了最先进的技术和多种配置模式，至今仍是全球小型基板和部件的参考工具。

操作简便舒适

MJB4 具有直观的界面和简单明了的控件，设计非常符合用户友好性要求。自动楔形误差补偿（WEC）和用于平版印刷工艺的集成模拟软件简化了操作，最大限度地减少了设置时间，并保证了最佳加工效果。

g* MJB4 g* 掩模对准机的主要特征

MJB4 通过 MO 曝光光学系统®、多种曝光模式和模块化升级提供可靠的光刻技术。它具有亚微米分辨率和 UV-NIL 选项，为高级研发和试生产提供了灵活的技术基础。

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出色的光照均匀性

通过微透镜板，MO 曝光光学系统® 实现了全场曝光的光照均匀性和更大的工艺窗口，从而提高良率。远心照明使曝光光与灯源分离，从而节省了设置和维护时间，同时确保在灯管的整个使用寿命期间获得一致的结果。

对准精度，广泛灵活性

MJB4 配备了高精度对准平台，提供顶面对准或红外对准，并可选择单场或分场显微镜，以获得清晰的图案识别和精确的结果。该系统可为非标准基底或 UV 纳米压印光刻进行可选升级，是微机电系统、光电子、混合材料和易碎 III-V 材料的理想之选。

适应性强的设备

MJB4 与您的研究需求同步增长：MJB4 拥有一个大型设备库，可处理从 5x5 mm 到 100 mm 晶圆的各种形状和厚度（最大厚度为 4 mm）的工件，具有最大的灵活性。还提供专用设备，用于处理异形基板和其他非标准工件。

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