手動掩模對準機

MJB4 掩模對準機

MJB4 是研究與小量生產的理想手動掩模對準機。該系統結構緊湊、易於使用且具有成本效益，配備可靠的高精度掩模對準機和高分辨率印刷能力，適用於最大 100 mm 的基板和工件。

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以精準度和多功能性提升研究能力

MJB4 結合了成熟的光刻效能與製程多功能性，適用於研究與小量生產。該系統支援易碎材料和 UV-NIL，其亞微米分辨率和快速基板轉換使其成為具有成本效益的解決方案。 ，讓 以可靠的結果探索新的應用。

每個製程的精確性

精確的對準和高品質的結果適用於廣泛的應用，靈活的曝光模式，包括軟曝光、硬曝光和真空曝光，結合高解析度的光學系統和 SUSS' 顯微鏡，可提供從 2 µm 到小於 0.5 µm 的解析度。

設計符合成本效益

MJB4 專為大學和小規模生產而設計，結合了經濟實惠與穩定的效能。其緊湊的設計、快速的設定、組態升級和可靠的操作確保了快速的投資回報，使該系統成為靈活研發實驗室具有成本效益和靈活性的選擇。

多功能的平版印刷先驅

作為最早的掩模對準機之一，MJB4 平台在研究和小批量製造領域樹立了業界標準。該系統配備了最先進的技術和多種配置模式，至今仍是全球小型基板和工件的參考工具。

操作簡易舒適

MJB4 擁有直覺式介面和簡單直接的控制方式，其設計具有卓越的用戶友好性。自動楔形誤差補償（WEC）和集成的平版印刷製程模擬軟體簡化了操作，最大限度地縮短了設置時間，並保證了最佳加工以獲得最佳效果。

g MJB4 g* 掩模對準機的主要對准特征

MJB4 透過 MO 曝光光学系统®、多种曝光模式和模块化升级提供可靠的光刻效果。具有次微米分辨率和 UV-NIL 選項，可為先進研發和試產提供靈活的技術基礎。

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優異的光照均勻性

透過微透鏡板，MO曝光光学系统® 可提供全場曝光的光照均勻性和更大的製程窗口，從而提高良率。遠心照明可將曝光光源與燈管光源分離，節省設定與維護時間，同時確保在燈管的使用壽命內都能達到一致的結果。

對準精度、彈性廣泛

MJB4 配備高精度對準平台，提供頂面對準或紅外線對準，並可選擇單場或分場顯微鏡，以獲得清晰的圖案識別和精確的結果。該系統可選擇升級為非標準基板或 UV 納米壓印光刻，是 MEMS、光電、混合材料和易碎 III-V 材料的理想選擇。

可調整的設備

MJB4 隨著您的研究需求而成長：MJB4 擁有大型設備庫，可處理從 5x5 mm 到 100 mm 晶圓的各種形狀和厚度（最厚達 4 mm）的工件，提供最大的靈活性。還提供專門的設備，以處理異形基板和其他非標準件。

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