手動マスクアライナ

MJB4 マスクアライナ

MJB4は、研究・少量生産に最適なマニュアルマスクアライナです。コンパクトで使いやすく、コストパフォーマンスに優れ、信頼性の高い高精度のマスクアライメントと100mmまでの基板やピースに対応する高解像度印刷機能を備えています。

高精度と汎用性で研究を強化

MJB4は、実証済みのリソグラフィ性能と、研究および少量生産向けのプロセス汎用性を兼ね備えています。壊れやすい材料やUV-NILをサポートし、サブミクロンの~~解像度と~~迅速な基板交換により、コスト効率の高いソリューションとなっています。、信頼性の高い結果で新しいアプリケーションの探求を可能にします。

あらゆるプロセスに対応する精度

ソフト、ハード、バキュームを含むフレキシブルな露光モードと高解像度光学系、SUSS顕微鏡の組み合わせにより、2μmから0.5μm以下の解像度を実現します。

設計によるコスト効率

大学や小規模生産向けに設計されたMJB4は、手頃な価格とスタベルの性能を兼ね備えています。コンパクトな設計、迅速なセットアップ、構成のアップグレード、信頼性の高い操作性により、迅速な投資回収が可能で、俊敏なR&Dラボにとって費用効率が高く、柔軟な選択肢となります。

リソグラフィーの万能パイオニア

最初のマスクアライメントの1つであるMJB4プラットフォームは、研究および少量生産における業界標準となりました。最先端の技術と複数のコンフィギュレーションモードを備えたこの装置は、現在でも世界中の小型基板やピースのリファレンス装置となっています。

オペレーターの容易さと快適さ

MJB4は、直感的なインターフェースとわかりやすい操作性で、ユーザーフレンドリー性に優れた設計となっています。自動ウェッジ誤差補正（WEC）とリソグラフィプロセス用統合シミュレーションソフトウェアは、操作を簡素化し、セットアップ時間を最小限に抑え、最高の結果を得るための最適な処理を保証します。

マスクアライナ MJB4 の主な機能

MJB4は、MO露光光学系^®、複数の露光モード、モジュール式アップグレードにより、信頼性の高いリソグラフィを実現します。サブミクロンの解像度とUV-NILオプションにより、高度なR&Dやパイロット生産に柔軟な技術基盤を提供します。

優れた光均一性

マイクロレンズプレートにより、MO露光光学系^®はフル露光フィールドでの光均一性と、より大きなプロセスウィンドウを提供し、より高い歩留まりを実現します。テレセントリック照明により、露光光がランプ光源から切り離されるため、ランプの寿命を通じて安定した結果を保証しながら、セットアップとメンテナンスの時間を節約できます。

アライメント精度、幅広い柔軟性

MJB4には高精度アライメントステージが搭載されており、トップサイドまたはIRアライメントが可能で、シングルフィールドまたはスプリットフィールド顕微鏡を選択することで、明確なパターン認識と高精度な結果を得ることができます。オプションで非標準基板やUVナノインプリントリソグラフィー用のアップグレードが可能で、MEMS、オプトエレクトロニクス、ハイブリッド、壊れやすいIII-V族材料に最適です。