最先端ウェハーのコーティングと現像

コーター&現像液ソリューション

すべてのプロセスに自信を:SUSSのコーター&現像液ソリューションは、ウェーハプロセスにおけるあらゆる要求をカバーします。均一な膜、正確な現像、幅広い基板対応力により、歩留まりを高め、所有コストを削減し、最先端の研究開発から大量生産まで、高度な後工程アプリケーションに信頼性の高い結果をもたらします。

DSC001~1.JPG

優れた汎用性

薄いレジスト層から厚膜レジスト層まで:SUSSシステムは、あらゆる生産規模において、均一な層、迅速な製品切り替え、*g信頼性の高い処理を保証します。

トップ製品

トップ製品をご覧ください

ACS200 Gen3 TE

ACS200 Gen3 TEは、ACS200 Gen3プラットフォームをベースに、100mm~200mmウェーハ向けに設計された拡張モジュールシステムです。
詳細を見る
ACS200_Gen3_TE-1600x1200.png
自動化された

ACS200 Gen3

100~200mm基板対応の自動塗布プラットフォームで、研究開発から大量生産まで幅広い用途に対応します。
詳細を見る
ACS200_Gen3-1600x1200.png
自動化された

ACS300 Gen2

200mmおよび300mmウェーハの高度なフォトリソグラフィープロセスに対応したオールインワンソリューションです。
詳細を見る
ACS300_Gen2-1600x1200.png
自動化された

ECD8

研究開発から量産まで、最大200mmまでのウェハーに対応する汎用性の高いコーター/現像液供給装置です。
詳細を見る
ECD8-1600x1200.png
半自動式

AS8

直径200mmまたは300mmまでの基板、および辺長6インチまでの正方形基板の研究開発および少量生産に最適な装置です。
詳細を見る
半自動式

LabSpin Series

<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>研究開発およびラボ環境向けに設計された次世代の手動スピンコーターおよび現像液。
詳細を見る
Lab_Spin8_1600x1200_bf267481c1.webp
手動で

MCS8

最小のフットプリントで500以上の機能を備えた、ラボ、スタートアップ、小規模生産のための革新的なラボクラスターです。
詳細を見る
MCS8-1600x1200.png
手動で

RCD8

200mmまでのウェーハに対応し、研究開発や小規模生産に適した汎用性の高いコーター&現像液です。
詳細を見る
RCD8-1600x1200.png
半自動式

HP8

高速で均一な加熱と直感的なコントロールが可能な、200mm基板用の柔軟な研究開発および小規模コーティングソリューション。
詳細を見る
HP8-1600x1200.png
手動で

SUSS コーター&現像液

主なメリット

最先端技術

高品質な結果:一貫した層の均一性と正確な現像液は、ばらつきと手戻りを最小限に抑え、ウェーハ生産量の増加、コスト効率の向上、先端半導体アプリケーションの高性能化に直結します。

迅速な処理

生産を加速し、精度を保つ:短いサイクルと最適化されたプロセスにより、高いスループット、一貫した結果、柔軟な対応力を実現し、めまぐるしく変化する市場の要求に俊敏に対応します。

あらゆる規模に対応するシステム

モジュール設計、フレキシブルな構成:SUSSプラットフォームは、コンパクトなラボシステムから完全な生産クラスターまで、あらゆる基板や材料をハンドリングします。研究開発試験から大量生産までシームレスに移行し、スケーラブルな性能と永続的な価値を提供します。

DSC014~1.JPG

最高の精度を実現するスマートな計測

安定した塗布、最適な歩留まり:SUSS ACS200/300と統合されたTM300モジュールは、自動フィルム測定とリアルタイムのプロセス制御を提供し、安定した量産結果を実現します。

膜厚制御

インライン干渉計は、フルウェーハ精度、安定したコーティング、ばらつきの低減を保証します。
DSC097~1.JPG

閉ループプロセス制御

リアルタイム制御により、一貫した結果、ダウンタイムの削減、生産全体の歩留まりの向上を実現します。
DSC09369_highRes.jpg

ダウンロード

詳細をお探しですか?テクニカルデータシートと製品プレゼンテーションのダウンロードは下記をクリックしてください。