フォトマスク精度を追求

フォトマスクベーク＆現像液システム

SUSSベーク＆デベロッパーシステムは、高精度な温度制御と柔軟なマルチモード現像プロセスを組み合わせることで、超低LERと厳密な現像液均一性を実現します。多様なレジストに対応し、R&Dから大量生産まで、あらゆるフォトマスク描画戦略において安定した再現性を確保します。

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精密なフォトマスク描画

超安定なベークステージとマルチモード現像*gにより、あらゆるレジストタイプにおいてCDの均一性とLERを超低レベルに保ちます。

トップ製品

トップ製品のご紹介

マスクトラックスマートBD

先進的な産業リソグラフィアプリケーションのための世界クラスのフォトマスクベーク＆現像のためのフラッグシッププラットフォーム。
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MASKTR~1.PNG
自動化された

ASxシリーズ

ウェハーの高度なベーク、レジスト剥離、洗浄・現像のための全自動フォトマスク処理プラットフォーム。
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APB9500-1600x1200.png
自動化された

SUSSフォトマスクベーク＆現像液ソリューション

主なメリット

超安定した温度制御

マスク表面全体の熱安定性のための正確で均一な温度管理は、先端ノードと高解像度フォトマスク描画のためのCD均一性と信頼性の高い性能を確保します。

マルチモード現像液

複数のプロセスオプションと様々なレジストとの高い互換性：当社のシステムは、高い柔軟性と精密な制御を兼ね備えており、標準的な材料から高度な材料まで、一貫した信頼性の高い結果を提供します。

超低LER

ベークと現像液モジュールを緊密に統合したSUSSシステムは、ばらつきを抑え、超低ラインエッジラフネスを維持し、高解像度マスクのターンキーパフォーマンスを実現します。

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統合計測プロセスコントロール

統合計測はフォトマスク処理の安定性を強化します。ベーク中のCDシフトを監視し、現像液後のレジストパターンを検証することで、当社のシステムは寸法精度を保護し、リワークを削減し、先端ノードの認定を加速します。

熱安定性

高度な処理により、ベーク中のCDのばらつきを検出し、高度なノードでも寸法の忠実性を確保します。
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精度保証

インプロセス制御は、現像液パターンをターゲットに対して検証し、ドリフトを防ぎ、オフラインチェックを減らす。
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