Entwickelt für die Genauigkeit von Fotomasken

Fotomasken Bake- & Developer-Systeme

Die Bake & Developer-Systeme von SUSS kombinieren eine hochpräzise Temperaturregelung mit einem flexiblen Multimode-Entwicklungsprozess, um eine extrem niedrige LER und eine hohe CD-Homogenität zu gewährleisten. Sie sind mit verschiedenen Fotolacken kompatibel und gewährleisten stabile, wiederholbare Ergebnisse für jede Strategie beim Schreiben von Fotomasken - von der Forschung und Entwicklung bis zur Großserienproduktion.

Präzises Schreiben von Fotomasken

Ultrastabile Bake-Stufen und Multi-Mode-Entwicklung sorgen für gleichmäßige CD-Werte und extrem niedrige LER-Werte bei allen Resisttypen.

Top-Produkte

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Masktrack Smart BD

Die Flaggschiff-Plattform für das Backen und Entwickeln von Fotomasken der Spitzenklasse für fortschrittliche industrielle Lithografieanwendungen.

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ASx-Serie

Vollautomatische Fotomasken-Verarbeitungsplattform für fortschrittliches Bake, Resist Strip, Clean & Develop auf 250-65 nm Wafern.

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SUSS Photomasken Bake & Developer Lösungen

Wesentliche Vorteile

Ultra-stabile Temperaturregelung

Ein präzises, gleichmäßiges Temperaturmanagement für thermische Stabilität über die gesamte Maskenoberfläche gewährleistet gleichmäßige CD-Werte und zuverlässige Leistung für fortschrittliche Knoten und hochauflösendes Schreiben von Fotomasken.

Multi-Mode-Entwicklung

Vielfältige Prozessoptionen und hohe Kompatibilität mit verschiedenen Resists: Unsere Systeme verbinden hohe Flexibilität mit präziser Steuerung und liefern konsistente und zuverlässige Ergebnisse von Standard- bis hin zu modernen Materialien.

Ultra-Niedrig-LER

Durch die enge Integration von Bake- und Entwicklungsmodulen reduzieren die SUSS Systeme die Variabilität, sorgen für eine extrem niedrige Kantenrauheit und liefern eine schlüsselfertige Leistung für hochauflösende Masken.

Integrierte Messtechnik Prozesskontrolle

Integrierte Messtechnik stärkt die Prozessstabilität von Fotomasken. Durch die Überwachung von CD-Verschiebungen während des Bake-Prozesses und die Validierung von Resistmustern nach der Entwicklung gewährleisten unsere Systeme die Maßgenauigkeit, reduzieren die Nacharbeit und beschleunigen die Qualifizierung für fortschrittliche Knotenpunkte.

Thermische Stabilität

Eine ausgeklügelte Verarbeitung erkennt CD-Schwankungen während des Backvorgangs und gewährleistet so die Maßhaltigkeit auch bei fortgeschrittenen Knotenpunkten.

Sicherstellung der Genauigkeit

Durch prozessbegleitende Kontrollen werden die entwickelten Muster anhand von Zielvorgaben validiert, wodurch ein Abdriften verhindert und Offline-Prüfungen reduziert werden.

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