专为光掩膜精度而设计

光掩膜烘烤和显影液系统

SUSS' 烘烤和显影系统将高精度温度控制与灵活的多模式显影工艺相结合，确保超低 LER 和严格的 CD 一致性。它们与各种光刻胶兼容，可确保从研发到大批量生产的各种光掩膜书写策略获得稳定、可重复的结果。

ExpertiseArea-photomask_546x878_8_5.webp

精确的光掩膜刻写

超稳定的烘烤阶段和多模式显影 *g 可在所有光刻胶类型中保持统一的 CD 值和超低的 LER 值。

顶级产品

了解我们的顶级产品

Masktrack smart烘焙显影机

用于先进工业光刻应用的世界级光掩膜烘烤和显影液开发旗舰平台。
了解更多
MASKTR~1.PNG
自动化

ASx 系列

全自动光掩模加工平台，用于在 250-65 纳米晶圆上进行高级烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤与显影。
了解更多
APB9500-1600x1200.png
自动化

SUSS' 光掩膜烘烤和显影液解决方案

主要优势

超稳定温度控制

精确、均匀的温度管理可确保整个掩膜表面的热稳定性，从而确保先进节点和高分辨率光掩膜写入的光盘均匀性和可靠性能。

多模式显影液开发

多种工艺选项和与各种光刻胶的高度兼容性：我们的系统将高度灵活性与精确控制相结合，从标准材料到先进材料，都能提供一致可靠的结果。

超低 LER

通过紧密集成的烘烤和显影液模块，SUSS' 系统可降低变异性，保持超低的线边粗糙度，并为高分辨率掩模提供交钥匙性能。

DSC00075_highRes.jpg

集成计量过程控制

集成计量增强了光掩模加工的稳定性。通过监测烘烤过程中的 CD 偏移和验证显影液后的光刻胶图案，我们的系统可确保尺寸精度、减少返工并加快先进节点的鉴定速度。

热稳定性

先进的处理技术可检测烘烤过程中的光盘变化，即使是高级节点也能确保尺寸的真实性。
DSC09369.jpg

精度保证

流程内控制可根据目标验证显影液图案，防止偏移并减少离线检查。
DSC09738_highRes.jpg

下载

想了解更多详情？请单击下面的链接下载技术数据表和产品介绍。

Product Overview Brochure EN
PDF

相关出版物

新闻稿、投资者关系新闻等：浏览我们的最新出版物，了解 SUSS' 的最新动态。

17/11/2025
SUSS presents ambitious plans for further sales growth and sustainable margin improvement at Capital Markets Day
Corporate News
CapitalMarketsDay_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
06/11/2025
SUSS expects significant improvement in order momentum in the fourth quarter
Corporate News
QuarterlyFigures_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
30/10/2025
New SUSS production site in Zhubei has officially opened
Corporate News
Zhubei_Opening_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
07/08/2025
SUSS finishes first half of the year with significant sales growth
Corporate News