포토마스크 정확도를 위한 설계

포토마스크 베이킹 및 현상 시스템

SUSS의 베이크 & 현상 시스템은 고정밀 온도 제어와 유연한 멀티 모드 현상 공정을 결합하여 초저 LER과 엄격한 CD 균일성을 보장합니다. 다양한 레지스트와 호환되므로 R&D부터 대량 생산에 이르기까지 모든 포토마스크 노광 전략에 대해 안정적이고 반복 가능한 결과를 보장합니다.

ExpertiseArea-photomask_546x878_8_5.webp

정밀한 포토마스크 노광

매우 안정적인 베이킹 스테이지와 멀티 모드 현상 으로 모든 레지스트 유형에 걸쳐 CD 균일성과 LER을 매우 낮게 유지합니다.

인기 제품

소니의 인기 제품 알아보기

마스크트랙 스마트 BD

첨단 산업용 리소그래피 애플리케이션을 위한 세계 최고 수준의 포토마스크 베이킹 및 현상액을 위한 플래그십 플랫폼입니다.
자세히 보기
MASKTR~1.PNG
자동화된

ASx 시리즈

250-65nm 웨이퍼의 고급 베이크, 레지스트 스트립, 세정 및 현상을 위한 완전 자동화된 포토마스크 공정 플랫폼입니다.
자세히 보기
APB9500-1600x1200.png
자동화된

SUSS의 베이크 & 디벨롭 시스템

주요 이점

매우 안정적인 온도 제어

마스크 표면 전체의 열 안정성을 위한 정밀하고 균일한 온도 관리로고급 노드 및 고해상도 포토마스크 쓰기를 위한 CD 균일성과 안정적인 성능을 보장합니다.

다중 모드 개발

다양한 공정 옵션과 다양한 레지스트와의 높은 호환성: 당사의 시스템은 높은 유연성과 정밀 제어를 결합하여 표준 재료부터 고급 재료까지 일관되고 신뢰할 수 있는 결과를 제공합니다.

초저 LER

SUSS' 시스템은 긴밀하게 통합된 베이킹 및 현상액 모듈을 통해 변동성을 줄이고 라인 에지 거칠기를 초저로 유지하며 고해상도 마스크를 위한 턴키 성능을 제공합니다.

DSC00075_highRes.jpg

통합 계측 공정 제어

통합 계측으로 포토마스크 공정 안정성을 강화합니다. 베이킹 중 CD 시프트를 모니터링하고 현상액 후 레지스트 패턴을 검증하여 치수 정확도를 보호하고 재작업을 줄이며 고급 노드에 대한 검증을 가속화합니다.

열 안정성

정교한 프로세싱이 베이킹 중 CD 변화를 감지하여 고급 노드에서도 치수 충실도를 보장합니다.
DSC09369.jpg

정확성 보장

프로세스 중 제어는 타겟에 대해 현상액 패턴을 검증하여 드리프트를 방지하고 오프라인 검사를 줄입니다.
DSC09738_highRes.jpg

다운로드

더 자세한 내용을 찾고 계신가요? 아래를 클릭하여 기술 데이터시트와 심층적인 제품 정보가 포함된 제품 프레젠테이션을 다운로드하세요.

Product Overview Brochure EN
PDF

관련 출판물

보도 자료, 투자자 관계 뉴스 등: 최신 발행물을 살펴보고 SUSS'에서 일어나는 일을 알아보세요.

17/11/2025
SUSS presents ambitious plans for further sales growth and sustainable margin improvement at Capital Markets Day
Corporate News
CapitalMarketsDay_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
06/11/2025
SUSS expects significant improvement in order momentum in the fourth quarter
Corporate News
QuarterlyFigures_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
30/10/2025
New SUSS production site in Zhubei has officially opened
Corporate News
Zhubei_Opening_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
07/08/2025
SUSS finishes first half of the year with significant sales growth
Corporate News