專為光罩精度設計

光罩烘烤與顯影液系統

SUSS' 烘烤與顯影系統結合了高精度溫度控制與彈性的多模式顯影製程，可確保超低的 LER 與嚴格的 CD 均勻性。與多種光刻膠相容，可確保從研發到大批量生產的各種光罩寫入策略都能獲得穩定、可重複的結果。

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精確的光罩寫入

超穩定的烘烤階段和多模式顯影液 *g 可在所有光刻膠類型中保持均一的 CD 和超低的 LER。

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智慧型 BD 面罩

世界級先進工業光刻應用光罩烘烤與顯影液開發的旗艦平台。
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全自動光掩模加工平台，可在 250-65 奈米晶圓上進行先進的烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤與顯影。
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SUSS' 光罩烘烤與顯影液解決方案

主要優勢

超穩定溫度控制

精確、均勻的溫度管理可確保整個光罩表面的熱穩定性，確保先進節點和高解析度光罩寫入的 CD 均勻性和可靠效能。

多模式顯影液開發

多種製程選項與各種光刻膠的高度相容性：我們的系統結合了高度彈性與精密控制，從標準材料到先進材料，都能提供一致且可靠的結果。

超低 LER

透過緊密整合的烘烤與顯影液模組，SUSS' 系統可降低變異性、維持超低線緣粗糙度，並提供高解析度掩模的交鑰匙性能。

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整合式計量製程控制

整合式計量可強化光掩模加工的穩定性。透過監控烘烤過程中的 CD 移動以及驗證顯影液後的光刻膠圖案，我們的系統可保障尺寸精確度、減少返工，並加速先進節點的驗證。

熱穩定性

先進的處理技術可偵測烘烤過程中的 CD 變化，即使是先進的節點也能確保尺寸的真實性。
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精確度保證

製程中控制可根據目標驗證顯影液圖案，防止偏移並減少離線檢查。
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