MaskTrack Pro 系列

光掩模加工 适用于下一代光刻技术

MaskTrack Pro 系列旨在通过创新技术平衡 193i 1x nm 半间距 (hp) DPT、极紫外光刻 (EUVL) 和纳米光刻 (NIL) 处理的最严格条件，从而最大限度地提高掩膜性能。

咨询专家

专为满足下一代光刻要求而设计

掩模完整性在先进光刻处理的成功中发挥着更大的作用，MaskTrack Pro 系列是唯一专门针对 EUVL 而设计的平台。

模块化结构

它具有可扩展性，允许与第三方产品进行设备集群，以便在完全受控的超洁净环境中对掩膜进行整体存储、处理和加工。

业界领先的选择

凭借其最高的首道清洗良率，MaskTrack Pro 系列已被业界公认为首选平台。

符合行业标准的处理

Masktrack Pro 系列专为无缝集成而设计，符合严格的行业标准。它符合 SEMI S2、S8 和 S13 标准，具有 CE 标志，并适用于 DIN EN ISO 14644 2 级受控环境。它具有标准 SECS/GEM 200/300 mm 接口，可立即实现工厂自动化。

根据半导体市场的需求量身定制

Masktrack Pro 系列的主要特点

随着掩模完整性在先进光刻工艺的成功中发挥越来越大的作用，MaskTrack Pro 系列是唯一专门针对 EUVL 而设计的平台。

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最低缺陷显影液

A+ 点胶系统/点胶装置可将显影液均匀分布在整个掩膜上，实现快速、均匀的表面润湿和介质交换--确保最小的缺陷和最佳的质量。

ASONIC 技术

声波流带来卓越的显影液：通过使用 MegaSonic 能量激发表面，ASONIC-Technology® 增加了显影液介质交换，从而实现均匀利用并改善光盘均匀性。

最新清洁技术

双兆声波清洗和高压全喷射清洗、刷式清洗以及原位 SC1/SPM、紫外线干洗、超净 DI 工艺、背面冲洗和 ESD 安全选项：Masktrack Pro 系列提供符合现代洁净室要求的复杂清洗技术。

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