マスクトラックプロシリーズ
次世代リソグラフィ用フォトマスク処理
マスクトラックプロシリーズは、193i 1x nmハーフピッチ(hp)DPT、極端紫外線リソグラフィ(EUVL)、ナノプリントリソグラフィ(NIL)プロセスにおける最も厳しい条件と、マスク性能を最大化する革新的な技術とのバランスをとるように設計されています。
マスクトラックプロシリーズ
マスクトラックプロシリーズは、193i 1x nmハーフピッチ(hp)DPT、極端紫外線リソグラフィ(EUVL)、ナノプリントリソグラフィ(NIL)プロセスにおける最も厳しい条件と、マスク性能を最大化する革新的な技術とのバランスをとるように設計されています。
半導体市場のニーズに対応
マスク完全性が重要視される先端リソグラフィプロセスにおいて、マスクトラックプロシリーズはEUVLに特化した唯一のプラットフォームです。

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