마스크트랙 프로 시리즈
차세대 리소그래피를 위한 포토마스크 공정 입니다.
MaskTrack Pro 시리즈는 마스크 성능을 극대화하는 혁신적인 기술로 193i 1x nm 하프 피치(hp) DPT, 극자외선 리소그래피(EUVL) 및 나노 프린트 리소그래피(NIL) 처리의 가장 엄격한 조건과 균형을 맞추도록 설계되었습니다.
마스크트랙 프로 시리즈
MaskTrack Pro 시리즈는 마스크 성능을 극대화하는 혁신적인 기술로 193i 1x nm 하프 피치(hp) DPT, 극자외선 리소그래피(EUVL) 및 나노 프린트 리소그래피(NIL) 처리의 가장 엄격한 조건과 균형을 맞추도록 설계되었습니다.
반도체 시장의 요구에 맞춘 맞춤형 솔루션
마스크 무결성이 첨단 리소그래피 공정의 성공에 큰 역할을 하는 가운데, MaskTrack Pro 시리즈는 EUVL과 관련하여 특별히 설계된 유일한 플랫폼입니다.

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