마스크트랙 프로 시리즈

차세대 리소그래피를 위한 포토마스크 공정 입니다.

MaskTrack Pro 시리즈는 마스크 성능을 극대화하는 혁신적인 기술로 193i 1x nm 하프 피치(hp) DPT, 극자외선 리소그래피(EUVL) 및 나노 프린트 리소그래피(NIL) 처리의 가장 엄격한 조건과 균형을 맞추도록 설계되었습니다.

차세대 리소그래피 요구 사항을 위한 설계

마스크 무결성이 첨단 리소그래피 공정의 성공에 큰 역할을 하는 가운데, MaskTrack Pro 시리즈는 EUVL을 위해 특별히 설계된 유일한 플랫폼입니다.

모듈식 아키텍처

완벽하게 제어되고 매우 청결한 환경에서 마스크의 보관, 핸들링 및 처리에 대한 전체적인 접근 방식을 위해 타사 제품과의 툴(Tool) 클러스터링을 허용하도록 확장할 수 있습니다.

업계 최고의 선택

마스크트랙 프로 시리즈는 최고의 1차 패스 세정 수율로 업계에서 가장 많이 선택하는 플랫폼으로 인정받고 있습니다.

업계 규정 준수 처리

원활한 통합을 위해 설계된 Masktrack Pro 시리즈는 엄격한 산업 표준을 충족합니다. SEMI S2, S8 및 S13을 준수하고 CE 마크를 획득했으며 DIN EN ISO 14644 클래스 2 제어 환경을 위해 제작되었습니다. 표준 SECS/GEM 200/300mm 인터페이스를 통해 즉시 공장 자동화에 사용할 수 있습니다.

반도체 시장의 요구에 맞춘 맞춤형 솔루션

마스크트랙 프로 시리즈 g*의 주요 기능

마스크 무결성이 첨단 리소그래피 공정의 성공에 큰 역할을 하는 가운데, MaskTrack Pro 시리즈는 EUVL과 관련하여 특별히 설계된 유일한 플랫폼입니다.

DSC09655_highRes (2).jpg
가장 낮은 결함 현상액

A+ 노즐 디스펜스 시스템은 현상액을 마스크 전체에 고르게 분배하여 빠르고 균일한 표면 습윤 및 미디어 교환이 가능하므로 결함을 최소화하고 최적의 품질을 보장합니다.

ASONIC 기술®

탁월한 현상액을 위한 어쿠스틱 스트리밍: 메가소닉 에너지를 사용하여 표면을 여기시키는 ASONIC-Technology®는 현상액 미디어 교환을 증가시켜 균일한 사용률과 향상된 CD 균일성을 제공합니다.

최신 청소 기술

듀얼 메가소닉 및 고압 풀젯 클리닝, 브러시 클리닝, 현장 SC1/SPM, UV 드라이 클리닝, 초정밀 DI 공정, 후면 린스 및 ESD 안전 옵션: Masktrack Pro 시리즈는 최신 클린룸 요건을 준수하는 정교한 클리닝 기술을 제공합니다.

다운로드

더 자세한 내용을 찾고 계신가요? 아래를 클릭하여 기술 데이터시트와 심층적인 제품 정보가 담긴 제품 프레젠테이션을 다운로드하세요.

관련 제품

포토마스크 솔루션 포트폴리오 살펴보기

ASx 시리즈

250-65nm 웨이퍼의 고급 베이크, 레지스트 스트립, 세정 및 현상을 위한 완전 자동화된 포토마스크 공정 플랫폼입니다.
자세히 보기
APB9500-1600x1200.png
자동화된

마스크트랙 스마트 BD

첨단 산업용 리소그래피 애플리케이션을 위한 세계 최고 수준의 포토마스크 베이킹 및 현상액을 위한 플래그십 플랫폼입니다.
자세히 보기
MASKTR~1.PNG
자동화된