임시 본딩 및 디본딩 솔루션

XBC300 Gen2 디본더 및 클리너

XBC300 Gen2는 실온에서 디본딩 및 세척을 위한 다목적 플랫폼입니다. 200mm 및 300mm 형식의 테이프 장착 웨이퍼 및 캐리어와 특대형 변형용으로 설계되어 50µm 이하의 초박형 장치 웨이퍼를 안전하게 핸들링할 수 있습니다.

XBC300 Gen2 debonder and cleaner platform by SUSS

고객 혜택

XBC300 Gen2는 파워 디바이스용 2.5D, 3D IC 및 Fan-out 웨이퍼 레벨 패키징(FoWLP) 웨이퍼와 화합물 반도체 및 MEMS 웨이퍼와 같은 깨지기 쉬운 기판 핸들링을 포함한 어드벤스드 패키징(Advanced Packaging)의 복잡한 요구 사항을 충족하도록 설계된 고도로 모듈화된 플랫폼의 이점을 누릴 수 있습니다.

기계적 스트레스를 최소화하는 기계적 필오프

DB300T 모듈은 다양한 접착제와 공정별 이형층을 사용하여 제어된 기계식 노치 정렬 디본딩을 가능하게 합니다. 이 시스템은 디본딩 전면을 정밀하게 안내함으로써 분리 공정 전반에 걸쳐 장치 웨이퍼에 가해지는 기계적 스트레스를 최소화합니다. 유리 및 실리콘 캐리어와 모두 호환되는 이 방법은 다양한 재료 스택에서 유연하고 안정적인 성능을 제공합니다.

투명 캐리어를 위한 레이저 보조 디본딩

LD300은 계면에서 접착 접합을 선택적으로 파괴하는 표적 308nm 엑시머 레이저 펄스를 사용하여 사실상 힘 없이 캐리어를 제거할 수 있습니다. 유리나 사파이어와 같은 투명 캐리어에 적합한 이 UV 기반 공정은 기계적 스트레스를 제거하면서 정밀하고 깨끗한 분리를 보장합니다.

효율적인 박막화 웨이퍼 세척

AR300TF 모듈은 테이프에 장착된 박막화 웨이퍼의 효율적인 습식 화학 세정을 위해 설계되었습니다. 웨이퍼와 테이프를 최대한 보호하면서 접착층을 효과적으로 제거하고 잔류물을 방출합니다. 세척과 헹굼을 위한 별도의 디스펜스 암을 통해 퍼들, 스프레이, 고압 등 다양한 디스펜스 모드와 통합 N₂ 건조를 지원하여 유연한 공정 제어가 가능합니다.

신뢰할 수 있는 캐리어 청소

AR300 모듈은 퍼들, 스프레이 또는 고압 도포 모드를 선택하여 전체 두께 웨이퍼와 기판 본더를 철저히 세척할 수 있습니다. 후면 린스 기능이 통합되어 있어 모든 표면에서 오염 물질을 완벽하게 제거할 수 있습니다. AR300TF와 마찬가지로 이 모듈은 별도의 디스펜스 암과 다양한 화학약품 옵션을 제공합니다.

모듈식 디본딩 및 세정 플랫폼

XBC300 Gen2 의 주요 특징

필요에 따라 확장할 수 있도록 설계되었습니다: XBC300 Gen2의 모듈식 아키텍처는 초기 공정 개발부터 대량 생산까지 원활하게 확장할 수 있습니다. 다양한 기판 본더 재료와 웨이퍼 크기를 지원하는 이 시스템은 모든 규모에서 공정 유연성을 제공합니다.

특허받은 독 앤 락™ 기술

특허받은 Dock and Lock™ 기술을 통해 현장에서 바로 사용할 수 있는 프로세스 모듈을 빠르게 업그레이드할 수 있으므로 대량 생산으로 전환할 때 기능을 확장하거나 처리량을 쉽게 늘릴 수 있습니다.

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특허 받은 지지 캐리어 보호 링

박막화 웨이퍼 세척용 AR300TF 모듈에는 전체 공정에서 테이프와 지지 캐리어를 보호하는 특허받은 보호 링이 장착되어 있어 중요한 표면을 보호하고 오염 없는 결과를 보장합니다.

정밀한 디본딩 전면 제어

XBC300 Gen2는 레이저 기반 디본더가 디본드 파면을 고정밀로 제어하여 가능한 가장 짧은 디본드 파면을 구현하고 장치 웨이퍼의 응력을 최소화할 수 있는 것이 특징입니다. 공정 전반에 걸쳐 최적화된 힘 분포를 위해 구역별로 파라미터를 프로그래밍할 수 있습니다.

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