반자동 마스크 얼라이너 및 임프린트

MA12 Gen3 마스크 얼라이너

MA12 Gen3는 최대 300mm 웨이퍼를 위한 반자동 마스크 얼라이너로, 검증된 리소그래피와 고급 임프린트 프로세싱을 결합한 장비입니다. 이 장비는 비용 효율적인 노광, 높은 오버레이 정확도, MEMS, 어드벤스드 패키징(Advanced Packaging) 및 R&D를 위한 공정 유연성을 제공합니다.

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유연한 리소그래피와 손쉬운 조작의 만남

MA12 Gen3 는 산업 R&D는 물론 중대형 생산 환경을 지원하도록 설계된 다목적 리소그래피 기능을 제공합니다. 컴팩트한 디자인으로 클린룸 공간을 절약하고 직관적인 핸들링으로 조작을 간소화합니다. SUSS의 최신 기술이 적용된 마스크 얼라이너는 표준, 고급 및 하이엔드 공정을 위한 안정적인 고품질 결과와 향상된 임프린트 처리 기능을 보장합니다.

완벽한 임프린트 다용도성

어드벤스드 패키징(Advanced Packaging), MEMS 및 나노 패터닝에 걸쳐 표준부터 고급 임프린트 공정까지 지원합니다: 유명한 SMILE 기술을 사용하는 MA12 Gen3 는 3D 통합, 화합물 반도체, LED, 마이크로 광학, AR 및 광전자 센서의 전체면 리소그래피를 위한 정확한 프로세싱을 제공합니다.

컴팩트한 디자인, 간편한 조작

MA12 Gen3 는 설치 공간이 작아 비용이 많이 드는 클린룸 공간을 절약하는 동시에 사용자 친화적인 작동을 제공합니다. 접근하기 쉬운 구성 요소, LED 광원, 유명한 SUSS' MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics® )로 유지보수를 최소화하고 원격 서비스 기능으로 신속하고 비용 효율적인 문제 해결을 보장합니다.

자동화된 정밀도

정량 도즈 모드(Constant Dose Mode), 자동 노광 제어 및 오토 얼라인먼트(Alignment) 기능을 갖춘 스마트 자동화로 공정 파라미터를 최적화하여 탁월한 결과를 얻을 수 있습니다. 직관적인 레시피 에디터와 정교한 데이터 로깅으로 파일럿 라인 및 R&D 애플리케이션의 안정성을 극대화합니다.

까다로운 애플리케이션 전반에서 탁월한 성능

MA12 Gen3 의 주요 특징

MA12 Gen3 는 수율을 극대화하고 까다로운 조건에서도 재현 가능한 결과를 보장합니다. 향상된 레벨링과 MO 익스포져 옵틱스(Exposure Optics)부터 웦 웨이퍼(warped Wafer) 및 민감한 재료를 위한 특수 핸들링에 이르기까지 모든 기능이 신뢰성과 성능을 위해 설계되었습니다.

향상된 SUSS' 레벨링 시스템

SUSS의 첨단 레벨링 시스템은 적층 중에 직접 실시간 간격을 측정하여 기판, 마스크 또는 스탬프 간의 고정밀 평행도를 달성함으로써 최적의 접촉 및 얼라인먼트(Alignment) 정확도를 보장합니다.

뛰어난 광 균일성

SUSS의 독자적인 마이크로 렌즈 기반 조명인 MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics®)는 탁월한 균일성과 더 넓은 공정 창으로 텔레센트릭 노출을 제공합니다. 플러그 앤 플레이 각도 설정과 분리형 광원 설계로 유지보수를 최소화하는 동시에 램프 수명 내내 일관된 성능을 보장합니다.

휘어지고 민감한 재료에 최적화된 핸들링

특수 툴킷은 평평하지 않은 기판에서도 효과적으로 얼라인먼트(Alignment)하여 휘어지거나 구부러진 웦 웨이퍼(Warped Wafer)를 지원합니다. 진공 척, 소프트 컨택/근접 노출 모드, 적응형 얼라인먼트 광학계(상단, 하단, IR)는 깨지기 쉬운 재료를 스트레스와 손상으로부터 보호합니다.