MA200 Gen3 마스크 얼라이너

까다로운 오버레이 요건을 위해 MA200 Gen3 는 업계 표준 PatMax와 함께 DirectAlign® 기능을 제공합니다. 저장된 패턴 대신 라이브 이미지를 사용하여 0.5µm의 상부 얼라인먼트(얼라인먼트) 정확도를 달성하여 대량 생산 애플리케이션에 이상적인 탁월한 공정 안정성과 반복 정확도를 보장합니다.

MO 익스포져 옵틱스(Exposure Optics® )는 탁월한 안정성과 함께 균일한 배광을 제공합니다. 플러그 앤 플레이 설계로 HR 모드와 LGO 모드 간에 빠르게 전환할 수 있으며, 텔레센트릭 조명으로 공정 창을 넓힐 수 있습니다. 이 시스템은 맞춤형 필터와 소형 웨이퍼용 다운사이징 키트를 통해 다양한 생산 요구 사항에 빠르게 적응할 수 있습니다.

MA200 Gen3 는 모든 공정 요구 사항에 맞는 다양한 노광 모드를 지원합니다. 근접 리소그래피는 3.5µm까지 빠르고 비용 효율적인 미세 구조를 구현하고, 컨택 및 진공 노광은 0.8µm 미만의 서브미크론 정밀도를 달성합니다. MEMS, 패키징 또는 이미지 센서 애플리케이션에 관계없이 이러한 다목적성은 처리량 저하 없이 유연성과 높은 해상도를 모두 보장합니다.

SUSS의 보정 시스템 ^{ThermAlign®은} 가공 중 척과 마스크 온도를 안정화하여 실시간으로 열 런아웃에 대응합니다. 변화하는 공정 조건에 적응함으로써 장시간의 생산 공정에서 일관된 오버레이 정확도와 높은 수율을 보장합니다.