수동 마스크 얼라이너(Alignment)

MJB4 마스크 얼라이너(Alignment)

MJB4는 연구 및 소량 생산에 이상적인 수동 마스크 얼라이너입니다. 컴팩트하고 사용하기 쉬우며 비용 효율적인 이 시스템은 신뢰할 수 있는 고정밀 마스크 얼라인먼트와 최대 100mm의 기판 및 조각에 대한 고해상도 프린팅 기능을 갖추고 있습니다.

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정밀성과 다용도로 연구 역량 강화

MJB4는 입증된 리소그래피 성능과 연구 및 소량 생산을 위한 공정 다목적성을 결합한 제품입니다. 깨지기 쉬운 재료와 UV-NIL을 지원하고 시스템의 미크론 미만 해상도, 빠른 기판 ~~전환으로~~비용 효율적인 솔루션입니다. 신뢰할 수 있는 결과로 새로운 애플리케이션을 탐색할 수 있습니다.

모든 프로세스를 위한 정밀도

다양한 응용 분야를 위한 정밀한 얼라인먼트와 고품질 결과, 소프트, 하드, 진공 등 유연한 노광 모드, 고해상도 광학계와 결합된 SUSS 현미경은 2µm에서 0.5µm 미만의 해상도를 제공합니다.

비용 효율적인 설계

대학 및 소규모 생산을 위해 특별히 제작된 MJB4는 경제성과 안정적인 성능을 겸비한 제품입니다. 컴팩트한 디자인, 빠른 설정, 구성 업그레이드, 안정적인 작동으로 빠른 투자 수익을 보장하므로 민첩한 R&D 연구소를 위한 비용 효율적이고 유연한 선택이 될 수 있습니다.

리소그래피의 다재다능한 선구자

최초의 마스크 얼라이너 중 하나인 MJB4 플랫폼은 연구 및 소량 제조 분야에서 업계 표준을 정립했습니다. 최첨단 기술과 다양한 구성 모드를 갖춘 이 시스템은 전 세계적으로 소형 기판 및 부품을 위한 기준 툴(Tool)로 사용되고 있습니다.

운영자 용이성 및 편의성

직관적인 인터페이스와 간단한 컨트롤을 갖춘 MJB4는 탁월한 사용 편의성을 위해 설계되었습니다. 리소그래피 공정을 위한 자동 웨지 에러 보정(WEC) 및 통합 시뮬레이션 소프트웨어는 조작을 간소화하고 설정 시간을 최소화하며 최상의 결과를 위한 최적의 처리를 보장합니다.

MJB4 마스크 얼라이너의 주요 특징

MJB4는 MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics®), 다중 노출 모드 및 모듈식 업그레이드를 통해 안정적인 리소그래피를 제공합니다. 서브 미크론 해상도 및 UV-NIL 옵션을 통해 고급 R&D 및 파일럿 생산을 위한 유연한 기술 기반을 제공합니다.

뛰어난 광 균일성

마이크로렌즈 플레이트를 사용하는 MO 익스포져 ^옵틱스 (Exposure Optics)는 전체 노광 필드에 걸쳐 광 균일성을 제공하고 더 넓은 공정 창을 제공하여 수율을 높입니다. 텔레센트릭 조명은 램프 광원에서 노광을 분리하여 설정 및 유지보수 시간을 절약하는 동시에 램프의 수명 내내 일관된 결과를 보장합니다.

정밀한 얼라인먼트(Alignment), 폭넓은 유연성

MJB4에는 고정밀 얼라인먼트(얼라인먼트) 스테이지가 장착되어 있어 탑사이드 또는 IR 얼라인먼트를 제공하며, 선명한 패턴 인식과 정밀한 결과를 위해 단일 필드 또는 분할 필드 현미경을 선택할 수 있습니다. 비표준 기판 또는 UV 나노 임프린팅 리소그래피를 위한 옵션 업그레이드를 통해 이 시스템은 MEMS, 광전자, 하이브리드 및 깨지기 쉬운 III-V 재료에 이상적입니다.

적응형 툴(Tool)

5x5mm에서 최대 100mm 웨이퍼까지 다양한 모양과 두께의 웨이퍼를 최대 4mm까지 핸들링할 수 있는 대형 툴링 라이브러리를 갖춘 MJB4는 연구 요구 사항에 따라 유연성을 극대화합니다. 특이한 모양의 기판 및 기타 비표준 조각을 핸들링하기 위한 특수 툴링도 사용할 수 있습니다.