用於光掩模清洗與製造製程的先進系統

ASC9500

ASC9500 是 SUSS 為成熟光掩模市場客戶打造的全自動光掩模清洗系統。它將 172 nm VUV 表面處理、最終清洗、熱烘烤與乾式翻轉處理整合於單一平台。系統建立於我們成熟清洗系統中經過現場驗證的技術，可在低至 38 nm 技術節點提供可靠的製程結果，並採用堅固耐用的長壽命設計，確保日常運行穩定。 

洽詢專家

可靠的光掩模清洗，降低風險並提升正常運行時間

ASC9500 專為需要在當下獲得可靠結果，同時需要能長期支援營運之平台的客戶而設計。它結合成熟技術、更寬廣的製程窗口，以及可簡化安裝與維護的設計。

擴展的製程能力

與舊款 ASC5500 平台相比，ASC9500 憑藉更寬廣且更穩健的製程窗口，將製程能力從 90 nm 技術節點擴展至 38 nm 技術節點。這讓您能在單一平台上，以更大的製程裕度服務成熟的光掩模生產。

永續的無酸清洗

獲得專利的原位 UV 單元採用無酸製程，清洗成效可媲美傳統酸性清洗，同時減少化學品消耗並降低環境衝擊。此外，這項先進方法使清洗過程更為溫和，可顯著延長掩模壽命。

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更易於安裝與維護

此平台提供足夠空間容納所有組件。改良的設備基礎架構縮短了安裝與預防性維護 (PM) 時間，讓您的設備能更快上線並重返生產。

以安全為導向的設計

此平台依據 SEMI S2-0821、SEMI S8-0218、IEC 60204-1 及相關 NFPA 標準設計，並採用先進的 TwinSAFE 安全概念。所有製程臂皆配備防濺保護，有助於營造安全的工作環境。

專為製程可靠性、安全性與可維護性而設計

ASC9500 的主要特色

KrF 與 ArF 節點的光掩模生產所需的不僅是移除微粒。每片掩模離開清洗設備時，都必須不含微粒、有機殘留物與殘留離子，同時在多次清洗循環中維持光掩模圖案完整性、相位與穿透率。ASC9500 透過在單一自動化平台上整合一整套成熟的製程模組，滿足這些要求。

表面處理

濕式化學製程僅在親水性表面上才能均勻作用。ASC9500 整合的 172 nm VUV 照射可分解有機污染物並改善潤濕性，使整個掩模區域都能實現可重複的清洗。

預清洗模組

可靠移除有機污染物與微粒，是每一次清洗的基礎。SPM 效率高，但其硫酸鹽殘留會造成 Haze 缺陷，促使業界轉向無酸替代方案。預清洗模組結合成熟的 SPM 與獲得專利的無酸 ISUV 製程，並提供奈米噴霧、Beam 與超音波選項，可依每種掩模類型量身調整製程。

最終清洗模組

最終清洗需在微粒移除效率 (PRE) 與損傷 SRAF 等脆弱特徵的風險之間取得平衡。由於沒有任何單一物理方法適用於所有佈局，最終清洗模組結合 Beam、超音波與液滴噴霧清洗，讓您能依每種應用匹配適當的清洗力。

乾式翻轉站

有效的掩模清洗必須涵蓋有圖案的正面與背面。每一道人工處理步驟都會增加污染或損壞的風險。整合式乾式翻轉站可在自動化流程中，以乾燥狀態翻轉掩模。正反兩面可在一次運行中完成處理，進而降低處理風險，並支援穩定、可重複的製程流程。

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