LabSpin Series Spin Coater & Developer

验室涂胶显影方案,最大尺寸6”到8”

SUSS MicroTec的labSpin平台推出下一代手动涂胶/显影系统。该系统根据实验室和研发用途定制开发,针对不同类型的光刻化学试剂设计,通过先进的腔体设计,提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果。

亮点

工艺多样化,包括涂胶和积水式显影

可进行去除厚胶边

滴胶位置可调节,允许中心滴胶和边缘涂胶

LabSpin系统提供两种型号的设备,分别是桌上型(table-top,TT)和集成型(集成在湿化学槽中,Bench Module,BM),都可以完成最大尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料,从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。

LabSpin设计了大量的选配件,适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。

Details: Coating & Developing

在旋涂法中旋转衬底被均匀地涂以溶液。 溶液,如光致抗蚀剂,通常分注在晶圆中心。 .然后加速度、最终转速和各步骤的持续时间使得涂料的一部分经离心分离形成厚度均匀的膜。 除了工艺参数外,溶液或光致抗蚀剂的物理性质决定了膜的厚度。

SUSS MicroTec 的 GYRSET 专利技术具有显著的优势。 GYRSET的原理是,工作室在涂胶过程中同步旋转,从而有效降低了旋转衬底上方的空气湍流。 在封闭的腔室中空气比通常用溶剂时更快速地饱和,使涂层缓慢干燥,从而更均匀地分布在衬底上。 这大大减少了材料的用量。

旋涂法不适用于有凹凸图形的结构。

我们的客户可以从中得到以下好处

  • 旋涂法是一种简单而应用广泛的方法
  • 通过 GYRSET 专利涂胶技术减少材料消耗并降低成本

选项:

全自动

半自动及手动

在此工艺中,一定量的显影剂被滴在曝光后的衬底上,并通过适度的旋转分散开。 显影液因其表面张力在晶圆上形成凸状的液面(“Puddle”)。 当显影时间结束后,通过提高旋转速度甩干晶圆上的显影液。 然后,用去离子水冲洗晶圆并同样提高转速甩干。 这种方法的优点是,只需使用少量显影液,就能提供优异的显影结果。

浸置式显影法不得用于显影液达到饱和时,例如当必须除去大量显影后的光刻胶时或者凹凸图形阻碍了更换显影液时。 在这些情况下,需多步使用浸置式显影或者使用喷涂式显影 。

我们的客户可以从中得到以下好处

  • 化学品用量降低

选项:

全自动

半自动及手动

在喷涂式显影中以较低的速度旋转待显影的衬底。 一个喷嘴不断向曝光区域喷洒新鲜的显影液,以防止显影剂饱和。 与浸置式显影相比这种方法的优势是,可用于较厚的光刻胶以及大面积显影。 用去离子水冲洗,随后甩干,完成整个显影过程。

我们的客户可以从中得到以下好处

  • 对整个晶圆均匀显影,即使在光刻胶较厚的情况下。

选项:

全自动

半自动及手动

LabSpin Configurator

What are your needs?

Beside some overall requirements all labs have different needs which arise from their specialized topics. This is why SUSS MicroTecs LabSpin tools are well designed and rock solid built basic coaters but can be equipped with various carefully selected options.

This configurator will guide you in a few easy steps to your perfect new lab tool.

Click here to configure your LabSpin

Downloads
Datasheet LabSpin6 & LabSpin8 350kb
SUSS Product Porfolio 990kb
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