鍍膜解決方案

LabSpin 系列 旋轉鍍膜機與顯影液

靈活、精確、安全：LabSpin6 和 LabSpin8 代表了最新一代的手動旋轉塗機和顯影液系統，適用於最大 150 和 200 mm 的晶圓。LabSpin 系列專為實驗室和研發環境設計，體積小巧，可為各種光刻化學品提供均勻、可重複的結果。

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一個系統，無限可能

從快速原型製作到先進製程開發，LabSpin6 和 LabSpin8 都能順應您的需求。根據您的研發發展，配置晶圓尺寸、卡盤、鍍膜選項和附加模組。這兩個系統都採用精巧的設計和智慧型技術，只佔用很小的空間，卻能提供精確、可重複的結果。

晶圓尺寸從 150 mm 到 200 mm

LabSpin6 支援最大 150 mm 的圓形基板和最大 100×100 mm 的方形基板，而 LabSpin8 則支援最大 200 mm 的圓形基板或 150×150 mm 的方形基板。這種靈活性可讓您在單一平台上探索各種製程。

卡盤種類繁多

LabSpin 系列提供多種不同的卡盤，可適應各種基板，甚至是碎片和特殊形狀的基板。這意味著更少的折衷、更少的限制，以及在不同應用中更可靠的結果。

適合您需求的涂布機選項

從簡單的光刻膠點膠系統/點膠裝置到全自動點膠和邊緣去除（EBR），LabSpin 系列都能提供您製程所需的功能。根據您的需求添加或移除功能，確保您始終在成本效益與製程能力之間取得平衡。

多種顯影液選項

利用 LabSpin 靈活的平台配置您的完美浸潤顯影液。從顯影液點膠、去離子水沖洗和氮氣乾燥選項中選擇，以建立您所需的確切製程，並使用額外的進階基板進行更進一步的調整。

適用於所有設施

適用於各種環境的靈活設定：LabSpin 可作為桌面型設備，也可作為內建平台無縫整合至濕法工作台、手套箱或 SUSS LabCluster。占地面积小，节省宝贵的洁净室空间，同时为您提供最大的安装灵活性。

LabSpin6 和 LabSpin8 塗布機和顯影液的主要特點

控制製程，加速研究

LabSpin 系列專為控制每個步驟而設計。透過可編程的配方、可調整的旋轉速度以及精確的加速度，您可以微調製程並可靠地重製，以獲得一致且有意義的研發結果。

旋轉速度範圍 50 至 8000 rpm

從低至 50 rpm 到高至 8,000 rpm（使用 200 mm 卡盤）- LabSpin 系列涵蓋了全方位的旋轉需求。無論您是需要敏感層的鍍膜，還是均勻薄膜的最高轉速，您都可以準確設定所需的參數。

加速度 200 rpm/s，最高可達 3,000 rpm/s

加速率從 200 rpm/s 到 3,000 rpm/s，讓您完全控制塗層動態。實現平滑、無瑕疵的塗層，並使製程精確適應您的材料特性。

200 個自訂食譜

節省時間並確保重複性：一個系統最多可儲存 200 個配方，每個配方有 40 個步驟。這樣就可以在製程間快速切換，同時保證多次運行的結果保持一致。

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