鍍膜解決方案

LabSpin 系列 旋轉塗佈與顯影平台

彈性、精準且安全：LabSpin6 與 LabSpin8 為最新一代手動旋轉塗佈／顯影系統，分別支援最大 150 mm 與 200 mm 晶圓。LabSpin 系列專為實驗室與研發 R&D 環境打造，以精巧占地提供對各類光微影化學品的均勻塗佈與高重複性製程表現

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一套系統，無限可能

從快速原型製作到先進製程開發，LabSpin6 與 LabSpin8 都能無縫因應您的需求。可隨著研發 R&D 進程彈性配置晶圓尺寸、真空吸盤 chuck 、塗佈選項與附加模組。憑藉精巧設計與智慧化技術，兩套系統占地小，並能提供精準且可重複的結果

晶圓尺寸涵蓋 150 mm 至 200 mm

LabSpin6 支援最大 150 mm 圓形基板與最大 100 × 100 mm 方形基板

LabSpin8 則可擴展至最大 200 mm 圓形或 150 × 150 mm 方形基板。此一彈性讓您能在同一平台上探索多樣化製程條件與應用

多樣化吸盤 Chuck 選擇

LabSpin 系列提供多種吸盤選項，可對應廣泛的基板類型，包含碎片與特殊形狀基板。藉由更高的適配性，降低設計妥協與限制，並在不同應用中維持穩定且可重複的製程表現

 

符合需求的塗佈選配

從基本的光阻供液系統，到全自動供液與邊緣 EBR ，LabSpin 系列可依製程需求提供相對應的功能配置。您可依需求增減選配，兼顧成本效益與製程能力，取得更合適的整體平衡

多種顯影選配

透過 LabSpin 的彈性平台，打造最符合需求的 puddle 顯影配置。您可在顯影液供給、DI 水沖洗與氮氣乾燥等選項中自由選擇，建立所需的完整製程，並可透過加裝進階防護蓋板 cover plate 進一步提升適應性

適用各種設施環境

適合各種環境的彈性配置：LabSpin 可作為桌上型設備使用，亦可無縫整合為內建平台，安裝於濕製程工作站 wet bench 、手套箱 glove box 或 SUSS LabCluster。精巧的占地可節省寶貴的無塵室空間，同時提供最大的安裝彈性

LabSpin6 和 LabSpin8 塗佈和顯影 的主要特點

掌控每一道製程，加速研發進程

LabSpin 系列以每一步驟皆可控為設計核心。透過可程式化配方 recipes 、可調式轉速與精準加速度設定，您可細緻調校製程並可靠重現，獲得一致且具價值的研發 R&D 成果

轉速範圍 50–8,000 rpm

LabSpin 系列支援最低 50 rpm 至最高 8,000 rpm 的轉速範圍（最高轉速依配置而定，例如搭配 200 mm 吸盤）。無論是針對敏感薄層進行低轉速溫和塗佈，或以高轉速達成膜厚均勻性需求，都能精準設定並重複執行所需參數

加速度 200–3,000 rpm/s

加速度範圍涵蓋 200 rpm/s 至 3,000 rpm/s，可依材料特性與目標膜厚調整塗佈動態。透過可控的加速曲線，有助於獲得平滑、穩定且一致的膜層品質

200 組自訂配方

節省設定時間並提升重複性：單一系統可儲存多達 200 組配方，每組最多可定義 40 個步驟。可快速切換不同製程流程，並協助維持多次運行的一致性

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