涂布解决方案

LabSpin 系列 旋涂机和显影液

灵活、精确、安全：LabSpin6 和 LabSpin8 代表了最新一代手动旋涂机和显影液系统，适用于最大 150 毫米和 200 毫米的晶片。LabSpin 系列专为实验室和研发环境而设计，占地面积小，可为各种光刻化学品提供均匀、可重复的结果。

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一个系统，无数可能

从快速原型制作到高级工艺开发，LabSpin6 和 LabSpin8 都能无缝适应您的需求。根据您的研发需求配置晶圆尺寸、卡盘、涂层选项和附加模块。凭借紧凑的设计和智能技术，这两款系统占用空间小，并能提供精确、可重复的结果。

晶圆尺寸从 150 毫米到 200 毫米

生成用于早期实验的小型基底或用于高级研发的全尺寸晶片：LabSpin6 支持最大 150 毫米的圆形基底和最大 100×100 毫米的方形基底，而 LabSpin8 则将这一范围扩展到 200 毫米的圆形基底或 150×150 毫米的方形基底。这种灵活性使您可以在一个平台上探索多种工艺。

卡盘种类繁多

LabSpin 系列有多种卡盘可供选择，可适应各种基底，甚至是碎片和特殊形状的基底。这意味着在不同的应用中，妥协更少，限制更少，结果更可靠。

适合您需求的涂布机选项

从简单的光刻胶点胶系统到全自动点胶和边缘去除（EBR）装置，LabSpin 系列可完全满足您的工艺要求。您可以根据需要增加或减少功能，确保在成本效益和工艺能力之间取得平衡。

多种显影液选项

利用 LabSpin 灵活的平台配置您的完美浸润显影液设置。从显影液点胶、去离子水冲洗和氮气干燥选项中进行选择，以创建您所需的精确流程，并通过额外的高级基板进一步调整。

适用于所有设施

适用于各种环境的灵活设置：LabSpin 可作为桌面型设备使用，也可作为内置平台无缝集成到湿法工作台、手套箱或 SUSS LabCluster 中。占地面积小，节省了宝贵的洁净室空间，同时为您提供了最大的安装灵活性。

LabSpin6 和 LabSpin8 涂布机和显影液的主要特点

控制流程，加速研究

LabSpin 系列专为控制每个步骤而设计。凭借可编程配方、可调旋转速度和精确的加速度，您可以对流程进行微调，并可靠地复制流程，从而获得一致、有意义的研发结果。

转速范围 50 至 8000 转/分钟

从最低 50 转/分到最高 8,000 转/分（带 200 毫米卡盘）--LabSpin 系列可满足各种旋转要求。无论您是需要敏感层的涂层，还是需要均匀薄膜的最高转速，您都可以准确设置所需的参数。

加速度 200 转/分至 3 000 转/分

加速度从 200 rpm/s 到 3,000 rpm/s，使您能够完全控制涂层动态。实现平滑、无缺陷的涂层，并根据材料特性精确调整工艺。

200 种定制食谱

节省时间并确保可重复性：在一个系统中最多可存储 200 个配方，每个配方有 40 个步骤。这样就可以在不同工艺之间快速切换，同时保证多次运行的结果保持一致。

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