光掩膜烘烤和显影系统

MaskTrack Smart BD 自动化光掩膜系统

业界的最佳选择:MaskTrack Smart BD 结合了尖端技术、最大良率和卓越的多功能性,可在整个烘烤与显影区提供世界一流的效果。

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下一代光刻的一体化解决方案

MaskTrack Smart BD 树立了尖端光刻技术的新标准。智能自动化、模块化适应性和出色的性能确保在单一平台上实现符合行业标准的最佳结果、高通用性和可靠的高良率生产,最高可达 32 纳米以下晶圆。

自动精度

体验您所需要的自动化边缘:干式翻转和低接触处理确保了精确、轻柔的传输。多个输入/输出站简化了生产流程,在线网络摄像头监控提供实时控制。

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终极性能

精确一致的结果:自动算法可精确控制光掩膜表面温度(90°C - 130°C),以满足您的精确目标 CD Mean。内置反馈回路利用实时 CD 数据不断改进均匀性,确保可靠的高质量性能。

最先进的技术

卓越的质量和掩模寿命:A+ 喷嘴低冲击点胶技术可实现快速、均匀的表面润湿和介质交换,最大限度地减少缺陷,提高整个基底的光盘均匀性。

符合行业标准的制造

我们的系统采用无缝集成设计,符合严格的行业标准。它符合 SEMI S2、S8 和 S13 标准,具有 CE 标志,并可用于 DIN EN ISO 14644 2 级受控环境。它具有标准 SECS/GEM 200/300 mm 接口,可立即实现工厂自动化。

精密制造

MaskTrack Smart BD 光掩膜系统的主要特点

掩膜存储、处理或加工:MaskTrack Smart BD 可确保在完全受控和极其洁净的环境中,以工业规模生产最复杂的光掩膜,并保证产品的高完整性。

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25 区加热板系统

智能加热板系统可在平均温度上升期间和目标温度下实现光掩膜表面精确的温度均匀性,确保最佳的曝光后烘烤和高质量的效果。

ASONIC 技术

声波流带来卓越的显影液:通过使用 MegaSonic 能量激发表面,ASONIC-Technology® 增加了显影液介质交换,从而实现均匀利用并改善光盘均匀性。

DIN EN ISO 14.644 标准

在 2 级认证环境中生产:特殊的物理和湿化学清洁方法可有效去除颗粒和污染物,提供符合 DIN EN ISO 14.644 标准的超洁净条件。智能工艺确保光掩模加工的完整性,最小可达到 1x 纳米半间距,并具有 90 纳米向后兼容性。

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了解我们的晶圆键合平台组合

HMx 系列

半自动化解决方案,适用于光罩和高难度半导体应用的中试和小批量生产。
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半自动

ASx 系列

全自动光掩模加工平台,用于在 250-65 纳米晶圆上进行高级烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤与显影。
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自动化