HMx 系列
用于光掩膜的专业清洗
研发和小批量生产高难度基板的最佳解决方案：HMx 系列占地面积小，结构紧凑，可为光掩模、光电子、有机发光二极管和特殊半导体后端应用提供高质量基板加工和专业清洗功能。
ASx 系列
全自动光掩模加工平台，用于在 250-65 纳米晶圆上进行高级烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤与显影。
了解更多
专为敏感基底而设计
紧凑的无尘室设计和出色的灵活性：HMx 系列将最先进的显影液、蚀刻和清洗功能与广泛的基板处理相结合。手动装载和自动工艺步骤确保了成熟的可靠性，而现代化的控制和先进的清洗技术则为敏感基底提供了最大的安全性。
化学品安全管理
最大程度地保证操作员和工艺安全：HMx 系列集成了安全的化学品存储、双保险点胶系统和符合人体工程学的装载区，确保每个步骤的安全处理。
理想的洁净室占地面积
适合任何环境：HMx 系列底座柜占地面积仅为 960 × 1120 毫米，介质柜占地面积仅为 300 × 1070 毫米，设计紧凑，性能强大。
根据半导体市场的需求量身定制
g* HMx 系列的主要特点
HMx 系列采用创新的点胶和清洗技术，可提供一致、无缺陷的结果。其模块化设计支持多种工艺选项，可针对不同应用和严格的均匀性要求进行定制，适用于中试项目或小规模生产。
下载
想了解更多详情？请点击下面的链接下载技术数据表和产品介绍，了解更多产品信息。
