HMx 시리즈

포토마스크용 특수 세정 장비

R&D 및 까다로운 기판의 소규모 양산을 위한 최적의 솔루션: HMx 시리즈는 포토마스크, 광전자, OLED 및 특수 반도체 백엔드 애플리케이션을 위한 고품질 기판 공정과 특수 세정 기능을 작고 컴팩트한 설치 공간에서 제공합니다.

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민감한 기판을 위한 설계

컴팩트한 클린룸 설계와 뛰어난 유연성: HMx 시리즈는 최첨단 현상액, 식각 및 세정 기능과 광범위한 서브스트레이트 핸들링(Substrate Handling)을 결합한 제품입니다. 자동화된 공정 단계를 통한 수동 로딩은 검증된 신뢰성을 보장하며, 최신 제어 및 고급 세척 기술은 민감한 기판에 대한 최고의 안전성을 제공합니다.

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안전한 화학 물질 관리

작업자 및 공정 안전성 극대화: HMx 시리즈는 안전한 화학물질 보관, 이중으로 구성된 디스펜스 시스템, 인체공학적 적재 공간을 통합하여 모든 단계에서 안전하게 핸들링할 수 있습니다.

동급 최고의 청소 수율

탁월한 1차 패스 세정 수율: 여러 가지 통합된 최첨단 세정 기술이 민감한 기판을 최대한 안전하게 보호하여 비용이 많이 드는 재작업을 최소화합니다.

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이상적인 클린룸 설치 공간

어떤 환경에도 적합: 기본 캐비닛의 경우 설치 공간이 960×1120mm, 미디어 캐비닛의 경우 300×1070mm에 불과한 HMx 시리즈는 컴팩트한 디자인에 강력한 성능을 제공합니다.

업계 규정 준수 처리

원활한 통합을 위해 설계된 HMx 시리즈는 엄격한 산업 표준을 충족합니다. SEMI S2, S8, S13을 준수하고 CE 마크를 받았으며 DIN EN ISO 14644 클래스 2 제어 환경에 맞게 제작되었습니다. 표준 SECS/GEM 200/300mm 인터페이스를 통해 공장 자동화에 즉시 사용할 수 있습니다.

반도체 시장의 요구에 맞춘 맞춤형 장비

HMx 시리즈 의 주요 특징

혁신적인 디스펜싱 및 세척 기술을 갖춘 HMx 시리즈는 일관되고 결함 없는 결과를 제공합니다. 모듈식 설계로 다양한 공정 옵션을 지원하므로 파일럿 프로젝트나 소규모 생산 모두에 대한 엄격한 균일성 요구 사항과 다양한 응용 분야에 맞게 맞춤화할 수 있습니다.

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가장 낮은 결함 현상액

A+ 노즐 디스펜스 시스템은 현상액을 마스크 전체에 고르게 분배하여 빠르고 균일한 표면 습윤 및 미디어 교환이 가능하므로 결함을 최소화하고 최적의 품질을 보장합니다.

ASONIC 기술®

탁월한 현상액을 위한 어쿠스틱 스트리밍: 메가소닉 에너지를 사용하여 표면을 여기시키는 ASONIC-Technology®는 현상액 미디어 교환을 증가시켜 균일한 사용률과 향상된 CD 균일성을 제공합니다.

최신 청소 기술

듀얼 메가소닉 및 고압 풀젯 클리닝, 브러시 클리닝, 현장 SC1/SPM, UV 드라이 클리닝, 초청결 DI 공정, 후면 린스 및 ESD 안전 옵션: HMx 시리즈는 최신 클린룸 요건을 준수하는 정교한 클리닝 기술을 제공합니다.

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