HMxシリーズ

*フォトマスク専用洗浄装置 *g

HMxシリーズは、フォトマスク、オプトエレクトロニクス、OLED、特殊半導体のバックエンドアプリケーション向けに、高品質なフットプリントと特殊洗浄機能を提供します。

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高感度基板用に設計

コンパクトなクリーンルーム設計と卓越した柔軟性:HMxシリーズは、最先端の現像液、エッチング液、洗浄機能を幅広い基板ハンドリングと一体化させました。自動化されたプロセスステップによるマニュアルローディングが実証された信頼性を保証し、最新の制御装置と高度な洗浄技術が高感度基板の最大限の安全性を実現します。

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安全な化学物質管理

オペレーターとプロセスの最大限の安全性:HMxシリーズは、安全な化学薬品保管庫、二重構造のディスペンシングシステム/人間工学に基づいたローディングエリアを一体化し、すべての工程で安全なハンドリングを実現します。

クラス最高のクリーニング歩留まり

卓越したファーストパス洗浄歩留まり:複数の統合された最先端の洗浄技術により、デリケートな基板を最大限に安全に保護し、コストのかかる再加工を最小限に抑えます。

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理想的なクリーンルームのフットプリント

どんな環境にもフィット:ベースキャビネットのフットプリントはわずか960×1120mm、メディアキャビネットは300×1070mmと、HMxシリーズはコンパクトなデザインでパワフルなパフォーマンスを提供します。

業界に準拠した処理

シームレスな統合のために設計されたHMxシリーズは、厳しい業界標準に適合しています。SEMI S2、S8、S13に準拠し、CEマークを取得し、DIN EN ISO 14644 Class 2の制御環境用に構築されています。標準的なSECS/GEM 200/300 mmインターフェースで、すぐに工場の自動化に対応できます。

半導体市場のニーズに対応

g HMxシリーズ g*の主な特長

革新的なディスペンシング技術と洗浄技術により、HMxシリーズは欠陥のない安定した結果を提供します。モジュール設計により複数のプロセスオプションをサポートし、パイロットプロジェクトや小規模生産の両方で、多様なアプリケーションや厳しい均一性要件に合わせたカスタマイズが可能です。

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最も欠陥の少ない現像液

A+ノズルディスペンスシステムは、現像液をマスク全体に均等に分配することで、迅速かつ均一な表面濡れとメディア交換を実現し、最小限の欠陥と最適な品質を保証します。

ASONICテクノロジー

優れた現像液のためのアコースティックストリーミング:メガソニックエネルギーを使用して表面を励起することにより、ASONIC-Technology®は現像液の交換を増加させ、均一な使用とCDの均一性を向上させます。

最新のクリーニング技術

デュアルメガソニック洗浄、高圧フルジェット洗浄、ブラシ洗浄に加え、インサイチュSC1/SPM、UVドライ洗浄、ウルトラクリーンDIプロセス、裏面洗浄、ESD対応オプションなど、HMxシリーズは最新のクリーンルーム要件に準拠した高度な洗浄技術を提供します。

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