SUSS at Photomask Japan 2026

横浜で開催されるPhotomask Japan 2026は、先端マスク技術とリソグラフィに携わる専門家にとって重要なミーティングポイントです。この会議では、EUVや高解像度マスクの製造から、複雑化する半導体アーキテクチャにおけるプロセス制御まで、次世代パターンに向けた課題に焦点が当てられます。

SUSSは、精密で重要な製造工程のために設計されたソリューションでこの環境に貢献します。当社のポートフォリオは、フォトマスク処理だけでなく、補完的なリソグラフィやボンディングアプリケーションをサポートし、幅広いユースケースにおいて安定した再現性の高いプロセスを可能にします。最先端ノード向けであれ、特殊デバイス向けであれ、当社のシステムは精度、スループット、統合の要求を満たすように構築されています。

このイベントでは、技術だけでなく、研究および大量生産の専門家とも交流することができます。SUSSの技術が、進化する要件を信頼性が高くスケーラブルな生産プロセスにどのように変換するのか、横浜でご一緒しませんか。