スタンプ製造装置

UV-SFTシリーズスタンプ製造装置

UV-SFTシリーズは、SUSSのコンパクトな卓上装置で、マイクロインプリントおよびナノインプリントリソグラフィー用の高品質なスタンプを高速かつ高精度に作製します。MA/BA Gen4シリーズ8″マスクアライメントを補完するように設計され、LED、MEMS/NEMS、マイクロオプティクス、AR、オプトエレクトロニクスセンサーなどの研究開発および大量生産に一貫した結果を提供します。

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高精度と汎用性で研究を強化

MJB4は、実証済みのリソグラフィ性能と、研究および少量生産向けのプロセス汎用性を兼ね備えています。壊れやすい材料やUV-NILをサポートし、サブミクロンの~~解像度と~~迅速な基板交換により、コスト効率の高いソリューションとなっています。、信頼性の高い結果で新しいアプリケーションの探求を可能にします。

あらゆるプロセスに対応する精度

ソフト、ハード、バキュームを含むフレキシブルな露光モードと高解像度光学系、SUSS顕微鏡の組み合わせにより、2μmから0.5μm以下の解像度を実現します。

設計によるコスト効率

大学や小規模生産向けに設計されたMJB4は、手頃な価格とスタベル性能を兼ね備えています。そのコンパクトなデザイン、迅速なセットアップ、コンフィギュレーションのアップグレード、信頼性の高いオペレーションは、迅速な投資回収を保証し、このシステムを機敏なR&Dラボにとってコスト効率が高く、柔軟な選択肢とします。

リソグラフィーの万能パイオニア

最初のマスクアライメントの1つであるMJB4プラットフォームは、研究や少量生産における業界標準となりました。最先端の技術と複数のコンフィギュレーションモードを備えたこの装置は、現在でも世界中の小型基板やピースのリファレンス装置となっています。

オペレーターの容易さと快適さ

MJB4は、直感的なインターフェースとわかりやすい操作性で、ユーザーフレンドリー性に優れた設計となっています。自動ウェッジ誤差補正（WEC）とリソグラフィプロセス用統合シミュレーションソフトウェアは、操作を簡素化し、セットアップ時間を最小限に抑え、最高の結果を得るための最適な処理を保証します。

スタンプ製造装置UV-SFT8の主な特長

あらゆるスケールに対応する洗練されたスタンプ

UV-SFT8は、精密なエンジニアリングと柔軟な加工を組み合わせることで、優れたスタンプ加工を実現しますUV-SFT8は、マイクロインプリントおよびナノインプリントのアプリケーションにおいて、品質、効率、プロセスの信頼性を提供し、研究開発からHVMまでのシームレスな統合をサポートします。

優れた光均一性

マイクロレンズプレートにより、MO露光光学系^®はフル露光フィールドでの光均一性と、より大きなプロセスウィンドウを提供し、より高い歩留まりを実現します。テレセントリック照明により、露光光がランプ光源から切り離されるため、ランプの寿命を通じて安定した結果を保証しながら、セットアップとメンテナンスの時間を節約できます。

アライメント精度、幅広い柔軟性

MJB4には高精度アライメントステージが搭載されており、トップサイドまたはIRアライメントが可能で、シングルフィールドまたはスプリットフィールド顕微鏡を選択することで、明確なパターン認識と高精度な結果を得ることができます。オプションで非標準基板やUVナノインプリントリソグラフィー用のアップグレードが可能で、MEMS、オプトエレクトロニクス、ハイブリッド、壊れやすいIII-V族材料に最適です。