フォトマスクの洗浄および製造プロセスのための先進システム

ASC9500

ASC9500は、成熟したフォトマスク市場のお客様に向けたSUSSの全自動フォトマスク洗浄システムです。172 nm VUV表面処理、最終洗浄、ホットベーク、ドライフリップハンドリングを1つのプラットフォームに統合しています。実績のある当社の洗浄システムの技術をベースに、38 nmテクノロジーノードまで信頼性の高いプロセス結果を実現し、日々の安定運用を支える堅牢で長寿命な設計を備えています。

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リスクを低減し、アップタイムを向上させる、信頼性の高いフォトマスク洗浄

ASC9500は、今日の確かな成果と、長期にわたり運用を支えるプラットフォームを求めるお客様のために設計されています。実績ある技術、より広いプロセスウィンドウ、そして設置とメンテナンスを簡素化する設計を兼ね備えています。

拡張されたプロセス能力

従来機種のASC5500プラットフォームと比較して、ASC9500は、より広く堅牢なプロセスウィンドウにより、プロセス能力を90 nmから38 nmテクノロジーノードまで拡張しています。これにより、成熟したフォトマスク生産に、1つのプラットフォームでより大きなプロセスマージンをもってお応えできます。

持続可能な酸フリー洗浄

特許取得済みのインサイチュUVユニットは、酸を使用しないプロセスにより、従来の酸ベース洗浄に匹敵する結果をもたらしながら、薬品の使用量と環境負荷を低減します。さらにこの先進的な手法は、よりマイルドな洗浄を実現し、マスク寿命を大幅に延ばします。

設置とメンテナンスの容易化

本プラットフォームは、すべてのコンポーネントを収容できる十分なスペースを備えています。改善された装置インフラにより、設置および予防保全（PM）の所要時間が短縮されるため、お客様の装置をより早く稼働させ、生産に復帰させることができます。

安全性を重視した設計

本プラットフォームは、SEMI S2-0821、SEMI S8-0218、IEC 60204-1、および関連するNFPA規格に準拠して設計されており、最先端のTwinSAFE安全コンセプトを採用しています。すべてのプロセスアームに装備された飛散防止カバーが、安全な作業環境を支えます。

プロセスの信頼性、安全性、保守性を追求した設計

ASC9500 の主な特長

KrFおよびArFノードでのフォトマスク生産には、パーティクル除去だけでは不十分です。すべてのマスクは、パーティクル、有機残渣、残留イオンのない状態で洗浄装置から出てくる必要があり、同時に、フォトマスクパターン完全性、位相、透過率を多数回の洗浄サイクルにわたって維持しなければなりません。ASC9500は、実績あるプロセスモジュールによる一連のシーケンスを1つの自動化プラットフォームに統合し、これらの要件を満たします。

表面処理

ウェット化学プロセスが均一に作用するのは、親水性の表面に限られます。ASC9500に統合された172 nm VUV照射は、有機汚染物質を分解し、濡れ性を向上させることで、マスク全面にわたる再現性の高い洗浄を可能にします。

プレ洗浄モジュール

有機汚染物質とパーティクルの確実な除去は、あらゆる洗浄の基盤です。SPMは効率的ですが、その硫酸塩残渣がヘイズの原因となるため、業界は酸フリーの代替手法へと向かっています。プレ洗浄モジュールは、実績あるSPMと、特許取得済みの酸フリーISUVプロセスを組み合わせ、ナノスプレー、ビーム、メガソニックのオプションにより、あらゆるマスクタイプにプロセスを最適化できます。

最終洗浄モジュール

最終洗浄では、パーティクル除去効率（PRE）と、SRAFなどの繊細な構造にダメージを与えるリスクとのバランスが求められます。あらゆるレイアウトに適した単一の物理的手法は存在しないため、最終洗浄モジュールはビーム、メガソニック、液滴スプレー洗浄を組み合わせ、用途ごとに最適な洗浄力を選択できます。

ドライフリップステーション

効果的なマスク洗浄には、パターンが形成された表面と裏面の両方が含まれます。手作業によるハンドリングは、その都度、汚染や破損のリスクを高めます。統合されたドライフリップステーションは、自動化されたシーケンス内で、マスクをドライ状態のまま反転します。両面を1回の処理で加工できるため、ハンドリングのリスクが低減し、安定した再現性のあるプロセスフローを実現します。