하이브리드 본딩 솔루션

XBC300 Gen2 D2W/W2W 하이브리드 본딩 플랫폼

XBC300 Gen2 D2W/W2W는 웨이퍼 대 웨이퍼(W2W), 집합적 다이 대 웨이퍼(D2W), 순차적 D2W 본딩을 클러스터 시스템에 통합한 세계 최초의 하이브리드 본딩 플랫폼입니다. 파트너인 SET Corporation SA와 협력하여 개발한 이 장비는 200mm에서 300mm 범위의 기판을 지원하며 테이프 프레임 캐리어에서 다이를 핸들링할 수 있습니다.

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하이브리드 웨이퍼 본딩을 위한 다목적 플랫폼

모든 하이브리드 본딩 공정이 가능한 XBC300 2세대 D2W/W2W는 시스템 온 칩(SoC)에서 적층형 IC(SIC)에 이르는 고급 3D 적층 응용 분야를 지원합니다. R&D 및 파일럿 라인용으로 설계된 이 제품은 모듈식 공정 기술을 통해 대량 제조를 위한 안정적이고 확장 가능한 경로를 제공합니다.

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통합 현장 계측

고정밀, 처리량 최적화 계측 스테이션이 장착된 XBC300 2세대 D2W/W2W는 모든 공정 단계에서 얼라인먼트(얼라인먼트) 정확도를 인라인으로 검증할 수 있습니다. 계측 모듈은 500µm 이상의 보이드 크기를 감지하는 해상도로 풀필드 IR 오버레이 측정 및 IR 보이드 검사를 지원합니다.

캐리어의 다양성: 실리콘 및 유리

업계에서 인정받는 XBC300 2세대 플랫폼을 기반으로 하는 XBC300 2세대 D2W/W2W는 테이프 프레임 캐리어에서 금형을 처리할 수 있도록 기능을 확장하여 미래에 대비한 설계를 위한 안정적인 성능을 보장합니다.

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최첨단 성능

XBC300 2세대 D2W/W2W는 최대 300N의 본드 힘으로 고급 다이-웨이퍼 본딩을 위한 ±100nm의 얼라인먼트(정렬) 정확도를 제공하는 SET Corporation SA의 통합 NEO HB 다이 본더를 갖추고 있습니다.

컴팩트한 설치 공간

XBC300 2세대 D2W/W2W는 W2W와 D2W 본딩 기능을 단일 통합 플랫폼에 결합하여 기존의 독립형 클러스터 설정에 비해 훨씬 더 작은 클린룸 설치 공간을 제공합니다. 간소화된 프로세스 아키텍처로 전체 투자와 총소유비용을 크게 절감할 수 있습니다.

정확하고 조정 가능하며 미래 지향적입니다.

XBC300 Gen2 W2W/D2W 하이브리드 디스펜스 시스템의 주요 특징

혁신적인 SUSS' 기술이 탑재된 XC300 2세대 W2W/D2W는 첨단 반도체 제조의 새로운 기준을 제시하고 하이브리드 본딩을 위한 완전 통합 솔루션을 제공합니다.

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W2W 본딩을 위한 100nm 미만의 얼라인먼트 정확도

XBA 본드 얼라이너는 SUSS의 인터록 파라미터(ISA) 기술, 통합 광학 기준 및 글로벌 보정을 사용하여 투명 및 불투명 웨이퍼 모두에 대해 일관된 서브 마이크론 얼라인먼트(Alignment) 정확도를 달성합니다. W2W에 대해 100nm 미만의 얼라인먼트(Alignment) 정밀도를 제공하여 향후 피치 스케일링 요구 사항도 충족합니다.

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최대 40µm의 다이 간격

XBC300 2세대 D2W/W2W는 높은 수율, 높은 처리량의 다이-웨이퍼 이송을 위해 업계 최고의 청결도와 얼라인먼트(얼라인먼트) 정확도를 제공합니다. 혁신적인 설계로 40µm의 초저력 웨이퍼 본딩 간격을 구현하여 타겟 기판에서 높은 다이 밀도를 보장합니다.

뛰어난 청결도

전체 웨이퍼 및 지지 캐리어용 수성 클리너 모듈은 메가소닉, 후면 린스 옵션 및 N2 보조 스핀 드라이를 포함한 다양한 디스펜싱 옵션을 제공합니다. 표준 구성은 2% 미만의 NH₄OH 또는 구연산과 같은 희석된 화학 물질과 SC1 기반 유기물 제거를 지원합니다.

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