반자동 마스크 얼라이너 및 임프린트

MA/BA Gen4 시리즈 마스크 및 본드 얼라이너

MA/BA Gen4 시리즈는 표준 또는 고급 애플리케이션을 위한 반자동 마스크 얼라이너 및 임프린트 처리를 위한 두 가지 플랫폼입니다. 검증된 SUSS' 리소그래피 기술과 새로운 자동화 및 인체공학적 기능을 결합한 이 시스템은 연구, 파일럿 생산 및 까다로운 공정 환경에서 안정적인 성능, 향상된 안전성 및 사용자 친화적인 작동을 보장합니다.

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고객의 이점

직관적인 조작과 인체공학적 편의성을 위해 설계된 MA/BA 4세대는 작업자의 수고를 줄이고 MEMS, 패키징 및 임프린트 애플리케이션 전반에서 공정 일관성을 보장합니다.

최첨단 기술

다양한 기판 범위에서 첨단 리소그래피 및 임프린트 공정을 위한 최적의 결과: 최신 얼라인먼트 기술, 고유한 SUSS 노광 개념 및 MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics® )는 최고 수준의 얼라인먼트와 기계적 정밀도, 뛰어난 해상도, 환경 지속 가능성 및 에너지 효율성을 제공합니다.

뛰어난 활용성

표준 공정용 MA/BA6 Gen4 및 MA/BA8 Gen4 또는 고급 및 하이엔드 애플리케이션용 MA/BA Gen4 Pro로 제공되는 이 시스템은 미세 구조부터 나노 스케일 임프린트까지 재현 가능한 우수한 결과를 제공합니다. 고도의 자동화 및 SMILE 기술을 통해 하나의 다목적 플랫폼에서 원활한 애플리케이션 탐색 및 확장이 가능합니다.

운영자 용이성 및 편의성

MA/BA 4세대 시리즈는 명확한 인터페이스, 안내식 워크플로우, 직관적인 컨트롤이 특징입니다. 인체공학적 레시피 에디터, 정교한 데이터 로깅 및 사용자 권한 할당 기능은 작업자의 수고를 줄이고 오류를 최소화하며 교육 시간을 단축하여 장시간 교대 근무 중에도 효율적이고 편안한 작업을 보장합니다.

컴팩트한 디자인, 확장 가능한 성능

연구와 생산 사이의 확장 가능한 다리: 동일한 프로세스 모듈과 소프트웨어 인터페이스를 통해 SUSS의 자동화된 플랫폼으로 직접 프로세스를 전송할 수 있으므로 대량 환경에서 효율적인 확장 및 검증 작업을 줄일 수 있습니다.

주요 특징 MA/BA Gen4 시리즈 의 특징

MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics® ) 및 SUSS의 최신 임프린트 기술을 탑재한 MA/BA Gen4 시리즈는 광학적 우수성, 정밀 얼라인먼트, 뛰어난 해상도를 제공합니다. 모듈식 설계로 어드벤스드 패키징, MEMS/NEMS, 3D 통합, 화합물 반도체, LED, 마이크로 광학, AR 및 광전자 공학을 지원합니다.

뛰어난 광 균일성

텔레센트릭 조명을 갖춘 MO 익스포져 옵틱스(Exposure ^Optics® )는 뛰어난 광 균일성과 공정 안정성을 제공합니다. 교체 가능한 조리개 플레이트와 맞춤형 조명이 다양한 리소그래피 및 임프린트 애플리케이션에 유연성과 수율 향상을 제공합니다.

최고 수준의 얼라인먼트(Alignment) 정밀도

MA/BA 4세대 시리즈는 다양한 기판 구성을 처리할 수 있도록 상단, 하단 및 적외선 정렬을 제공합니다. 옵션으로 제공되는 ^{DirectAlign®} 기술은 라이브 이미지 감지를 통해 0.5µm의 오버레이 정확도를 달성하여 복잡한 구조, 다층 스택 및 까다로운 공정 조건에서도 안정적인 얼라인먼트를 보장합니다.

뛰어난 해상도 및 패턴 충실도

하드, 소프트 또는 진공 접촉 모드에서 0.8µm의 해상도와 새로운 에너지 효율 램프 하우스는 전체면 리소그래피의 새로운 기준을 설정합니다. 맞춤형 SUSS' 광학 모델과 통합된 시뮬레이션을 통해 공정 시각화, 정량적 예측, 파라미터 최적화를 통해 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.