半自動マスクアライナとインプリント

MA/BA Gen4シリーズマスク・ボンドアライナ

MA/BA Gen4シリーズは、半自動マスクアライナとインプリントの2つのプラットフォームで、スタンダードからハイエンドまで対応します。実績のあるSUSSリソグラフィ技術と新しい自動化および人間工学的機能を組み合わせたこのシステムは、研究、パイロット生産、および要求の厳しいプロセス環境において、安定した性能、強化された安全性、およびユーザーフレンドリーな操作を保証します。

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お客様のメリット

直感的な操作と人間工学に基づいた使いやすさを追求したMA/BA Gen4は、オペレーターの労力を軽減し、MEMS、パッケージング、インプリントの各アプリケーションにおけるプロセスの一貫性を保証します。

最先端技術

最新のアライメント技術、独自のSUSS露光コンセプト、MO露光光学^系®により、最高レベルのアライメント精度と機械的精度、優れた解像度、さらに環境維持とエネルギー効率を実現します。

卓越した汎用性

標準プロセス用のMA/BA6 Gen4およびMA/BA8 Gen4、または高度でハイエンドなアプリケーション用のMA/BA Gen4 Proがあり、微細構造からナノスケールのインプリントまで、優れた再現性のある結果を提供します。高い自動化とSMILEテクノロジーにより、1つの多用途プラットフォームでシームレスなアプリケーションの探索とスケールアップが可能です。

オペレーターの容易さと快適さ

MA/BA Gen4シリーズは、明確なインターフェイス、ガイド付きワークフロー、直感的なコントロールを特徴としています。人間工学に基づいたレシピエディタ、洗練されたデータロギング、ユーザー権限の割り当て機能により、オペレーターの労力を軽減し、ミスを最小限に抑え、長時間のシフトでも効率的で快適な操作を保証するトレーニング時間を短縮します。

コンパクトなデザイン、スケーラブルなパフォーマンス

研究と生産間のスケーラブルな橋渡し同一のプロセスモジュールとソフトウェアインターフェースにより、SUSS'の自動化プラットフォームへの直接的なプロセス移管が可能になり、効率的なスケールアップが可能になり、大量生産環境における適格性確認の労力が軽減されます。

MA/BA Gen4シリーズ g*の主な特長

MO露光^光学系®とSUSSの最新インプリント技術を搭載したMA/BA Gen4シリーズは、卓越した光学性能、アライメント精度、優れた解像度を実現します。そのモジュール設計は、先進パッケージング、MEMS/NEMS、3Dインテグレーション、化合物半導体、LED、マイクロオプティクス、AR、オプトエレクトロニクスをサポートします。

優れた光均一性

テレセントリック照明によるMO露光光学系^®は、優れた光均一性とプロセス安定性を提供します。交換可能なアパチャープレートとカスタマイズ可能な照明は、幅広いリソグラフィーおよびインプリントアプリケーションに柔軟性と歩留まりの向上をもたらします。

最高レベルのアライメント精度

MA/BA Gen4シリーズは、トップサイド、ボトムサイド、赤外線アライメントを提供し、多様な基板構成に対応します。オプションの^DirectAlign®テクノロジーは、ライブ画像検出により0.5 µmのオーバーレイ精度を実現し、複雑な構造、多層スタック、厳しいプロセス条件でも信頼性の高いアライメントを保証します。

優れた解像度とパターン忠実度

ハード、ソフト、真空の各コンタクトモードで0.8µmまでの解像度を実現し、エネルギー効率の高いランプハウスにより、フルフィールドリソグラフィの新たなベンチマークを打ち立てました。カスタムSUSS光学モデルによる統合シミュレーションにより、プロセスの可視化、定量的予測、最適な結果を得るためのパラメータ最適化が可能です。