Halbautomatischer Mask Aligner und Imprint

MA/BA Gen4 Serie Mask and Bond Aligner

Die MA/BA Gen4-Serie stellt zwei Plattformen für halbautomatische Mask Aligner und Imprint-Verarbeitung für Standard- und High-End-Anwendungen dar. Das System kombiniert die bewährte SUSS Lithografie-Technologie mit neuen Automatisierungs- und Ergonomiefunktionen und gewährleistet stabile Leistung, erhöhte Sicherheit und benutzerfreundliche Bedienung für Forschung, Pilotproduktion und anspruchsvolle Prozessumgebungen.

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Ihre Vorteile

Die MA/BA Gen4 wurde für eine intuitive und ergonomische Bedienung entwickelt. Sie reduziert den Arbeitsaufwand des Bedieners und gewährleistet Prozesskonsistenz bei MEMS-, Verpackungs- und Druckanwendungen.

Technologie auf dem neuesten Stand der Technik

Optimale Ergebnisse für fortschrittliche Lithografie- und Imprint-Prozesse über ein breites Substratspektrum hinweg: Modernste Ausrichttechniken, das einzigartige SUSS Belichtungskonzept und MO Exposure Optics® liefern ein Höchstmaß an Ausrichtung und mechanischer Präzision, überlegene Auflösung sowie Umweltverträglichkeit und Energieeffizienz.

Hervorragende Vielseitigkeit

Das System ist als MA/BA6 Gen4 und MA/BA8 Gen4 für Standardprozesse oder als MA/BA Gen4 Pro für fortgeschrittene und High-End-Anwendungen erhältlich und liefert hervorragende, reproduzierbare Ergebnisse von Mikrostrukturen bis hin zum Prägen im Nanobereich. Der hohe Automatisierungsgrad und die SMILE-Technologie ermöglichen eine nahtlose Anwendungsexploration und ein Scale-up auf einer vielseitigen Plattform.

Bedienerfreundlichkeit und Komfort

Die MA/BA Gen4-Serie zeichnet sich durch klare Schnittstellen, geführte Arbeitsabläufe und intuitive Bedienelemente aus. Der ergonomische Rezepteditor, die ausgefeilte Datenprotokollierung und die Möglichkeit, Benutzerrechte zu vergeben, reduzieren den Aufwand für den Bediener, minimieren Fehler und verkürzen die Einarbeitungszeit, sodass ein effizienter, komfortabler Betrieb auch bei längeren Schichten gewährleistet ist.

Kompaktes Design, skalierbare Leistung

Die skalierbare Brücke zwischen Forschung und Produktion: Identische Prozessmodule und Softwareschnittstellen ermöglichen einen direkten Prozesstransfer auf die automatisierten Plattformen von SUSS, was ein effizientes Scale-up ermöglicht und den Qualifizierungsaufwand in hochvolumigen Umgebungen reduziert.

Hauptmerkmale der MA/BA Gen4 Serie

Ausgestattet mit MO Exposure Optics® und den neuesten SUSS-Imprinting-Technologien, bietet die MA/BA Gen4-Serie optische Spitzenleistungen, präzise Ausrichtung und hervorragende Auflösung. Ihr modulares Design unterstützt fortschrittliches Packaging, MEMS/NEMS, 3D-Integration, Verbindungshalbleiter, LED, Mikrooptik, AR und Optoelektronik.

Ausgezeichnete Lichtgleichmäßigkeit

MO Exposure ^Optics® mit telezentrischer Beleuchtung sorgt für hervorragende Lichtgleichmäßigkeit und Prozessstabilität. Austauschbare Aperturplatten und anpassbare Beleuchtungen sorgen für Flexibilität und Ertragssteigerung bei einer Vielzahl von Lithografie- und Druckanwendungen.

Höchste Präzision bei der Ausrichtung

Die MA/BA Gen4-Serie bietet Top-Side-, Bottom-Side- und Infrarot-Ausrichtung für unterschiedliche Substratkonfigurationen. Die optionale DirectAlign®-Technologie erreicht durch Live-Bild-Erkennung eine Überlagerungsgenauigkeit von 0,5 µm und gewährleistet eine zuverlässige Ausrichtung selbst bei komplexen Strukturen, Multilayer-Stapeln und schwierigen Prozessbedingungen.

Hervorragende Auflösung und Mustertreue

Eine Auflösung von bis zu 0,8 µm im Hart-, Weich- oder Vakuumkontaktmodus und ein neues energieeffizientes Lampenhaus setzen neue Maßstäbe in der Vollfeldlithografie. Die integrierte Simulation mit kundenspezifischen optischen Modellen von SUSS ermöglicht Prozessvisualisierung, quantitative Vorhersagen und Parameteroptimierung für optimale Ergebnisse.

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