포토마스크 공정 플랫폼

ASx 시리즈 포토마스크 공정 플랫폼

수율과 품질 극대화: ASx 시리즈는 250nm~65nm 웨이퍼의 고급 베이크, 레지스트 스트립 및 세정, 현상 공정을 하나의 시스템에서 처리할 수 있는 완전 자동화된 포토마스크 공정 플랫폼입니다.

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뛰어난 성능, 컴팩트한 디자인

ASx 시리즈는 업계 최고의 정밀도와 최고의 신뢰성 및 성능을 결합하여 248nm 및 193nm 리소그래피에 노출된 마스크의 결함 없는 처리라는 중요한 과제를 해결합니다. 이 모든 것이 뛰어난 세척 효율과 탁월한 소유 비용으로 제공됩니다.

동급 최고의 청소 수율

뛰어난 1차 패스 세정 수율을 자랑하는 ASx 시리즈는 업계에서 입증된 세척 기술을 통해 마스크 수명을 연장하고 생산 비용을 절감합니다.

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업계 최고의 설치 공간

컴팩트한 설치 공간: 1200×1200mm의 ASx 시리즈는 프리미엄 처리 성능은 그대로 유지하면서 공간 활용도를 극대화하고 소유 비용을 절감할 수 있습니다.

최첨단 어드밴스드 베이킹

14nm 노드 이상까지 인증된 고급 베이킹 기술은 차세대 리소그래피 애플리케이션의 가장 까다로운 사양을 충족하는 포토마스크를 보장합니다.

스마트 자동화

고급 포스트 노출 베이크(AEP), 화학적 여과, 정밀한 온도 제어 및 모니터링 기능이 통합된 클러스터형 설계는 고도로 제어된 PEB 단계를 보장하여 공정 안정성, 신뢰할 수 있는 결과 및 우수한 마스크 품질을 극대화합니다.

엔지니어링 정밀도와 제조 우수성의 만남

주요 특징 ASx 시리즈 포토마스크 공정 플랫폼의 주요 특징

ASx 시리즈는 지능형 온도 제어, 자동화된 공정 최적화, 결함 최소화 현상액 기술을 통해 타협하지 않는 기술 성능을 제공하여 복잡한 포토마스크 공정을 일관되고 업계 최고의 결과물로 전환합니다.

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25존 핫플레이트 시스템

지능형 핫플레이트 시스템은 평균 온도 상승 시와 목표 온도에서 포토마스크 표면의 온도를 정밀하게 균일하게 유지하여 최적의 포스트 노출 베이크와 고품질 결과물을 보장합니다.

자동화된 프로세스 최적화

내장된 알고리즘이 90~130°C에서 베이킹 성능을 자동으로 미세 조정하여 정밀한 CD-평균-타겟 제어와 일관된 마스크 품질을 보장합니다.

가장 낮은 결함 현상액

A+ 노즐 디스펜스 시스템은 마스크 전체에 현상액을 고르게 분배하고, 액티브 탈기는 미세 기포를 방지하여 결함을 최소화하고 수율을 극대화합니다.

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