印模與基板對準設備

UV-SFT 系列 印模與基板對準設備

UV-SFT 系列是 SUSS' 的緊湊型桌上型設備,用於快速、精確地製作微壓印與納米壓印所需的高品質工作印模。該系列專為補充 MA/BA Gen4 系列 8 吋掩模對準機而設計,可為 LED、MEMS/NEMS、微光學、AR 和光電感測器等領域的研發和大批量製造提供一致的結果。

UV SFT Series

以精準度和多功能性提升研究能力

MJB4 結合了成熟的光刻效能與製程多功能性,適用於研究與小量生產。該系統支援易碎材料和 UV-NIL,其亞微米分辨率快速基板轉換使其成為具有成本效益的解決方案。 ,讓 以可靠的結果探索新的應用。

每個製程的精確性

精確的對準和高品質的結果適用於廣泛的應用,靈活的曝光模式,包括軟曝光、硬曝光和真空曝光,結合高解析度的光學系統和 SUSS' 顯微鏡,可提供從 2 µm 到小於 0.5 µm 的解析度。

設計符合成本效益

MJB4 專為大學和小規模生產而設計,結合了經濟實惠與穩定的效能。其緊湊的設計、快速的設定、組態升級和可靠的操作確保了快速的投資回報,使該系統成為靈活研發實驗室具有成本效益和靈活性的選擇。

多功能的平版印刷先驅

作為最早的掩模對準機之一,MJB4 平台在研究和小批量製造領域樹立了業界標準。該系統配備了最先進的技術和多種配置模式,至今仍是全球小型基板和工件的參考工具。

操作簡易舒適

MJB4 擁有直覺式介面和簡單直接的控制方式,其設計具有卓越的用戶友好性。自動楔形誤差補償(WEC)和集成的平版印刷製程模擬軟體簡化了操作,最大限度地縮短了設置時間,並保證了最佳加工以獲得最佳效果。

UV-SFT 印模與基板對准設備的主要功能

適用於任何規模的精密印模與基板對准

UV-SFT 結合了精確的工程設計與靈活的加工方式,提供卓越的印模製作 UV-SFT 可為微壓印和奈米壓印應用提供品質、效率和製程可靠性,支援從研發到 HVM 的無縫整合。

優異的光照均勻性

透過微透鏡板,MO曝光光学系统® 可提供全場曝光的光照均勻性和更大的製程窗口,從而提高良率。遠心照明可將曝光光源與燈管光源分離,節省設定與維護時間,同時確保在燈管的使用壽命內都能達到一致的結果。

對準精度、彈性廣泛

MJB4 配備高精度對準平台,提供頂面對準或紅外線對準,並可選擇單場或分場顯微鏡,以獲得清晰的圖案識別和精確的結果。該系統可選擇升級為非標準基板或 UV 納米壓印光刻,是 MEMS、光電、混合材料和易碎 III-V 材料的理想選擇。

可調整的設備

MJB4 隨著您的研究需求而成長:MJB4 擁有大型設備庫,可處理從 5x5 mm 到 100 mm 晶圓的各種形狀和厚度(最厚達 4 mm)的工件,提供最大的靈活性。還提供專門的設備,以處理異形基板和其他非標準件。

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