接近式光刻机

MA300 Gen3

用于 300 毫米和 200 毫米晶圆的新一代自动掩模对准机平台，旨在满足现代高端工厂在大批量生产环境中的要求。

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自动化

MA200 Gen3

MA200 Gen3 掩模对准机是专为大批量生产而设计的，适用于最大 200 毫米晶圆的自动加工。

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自动化

MA12 Gen3

半自动化系统，用于先进封装、微机电系统和压印光刻应用中最大 300 毫米晶圆的掩模对准机。

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半自动

MA/BA Gen4 系列

SUSS' 半自动化掩模与键合对准器的新平台系统：MA/BA Gen4 和 MA/BA Gen4 Pro 两种系统在配置上有所不同，可用于标准工艺或先进的高端工艺。

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半自动

MJB4

使用方便，体积小巧：SUSS' MJB4 是实验室和小批量生产 100 mm 以下基板和工件的完美系统。

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自动化

UV-SFT 系列

紧凑型印模与基板对准设备，可快速、精确地生产用于微压印和纳米压印光刻的高质量工作印模。

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自动化