모든 조건에서 신뢰할 수 있는 마스크 얼라인먼트(Alignment)

마스크 얼라인먼트(Alignment)

SUSS의 마스크 얼라이너는 뛰어난 얼라인먼트(Alignment) 정확도와 첨단 노광 광학계를 결합하여 가장 까다로운 리소그래피 과제를 해결합니다. 최대 300mm 기판용으로 설계된 이 제품은 R&D에서 대량 제조에 이르기까지 모든 규모의 다양한 애플리케이션에서 안정적인 오버레이, 높은 수율 및 신뢰할 수 있는 결과를 제공합니다.

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모든 기판에 대한 정밀도 높은 얼라인먼트(Alignment)

정밀 광학 및 자동화를 통한 마스크-웨이퍼 및 웨이퍼-웨이퍼 얼라인먼트() 정밀도로 안정적인 공정과 높은 수율을 보장합니다.

주요 제품

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MA300 Gen3

대량 제조 환경에서 최신 하이엔드 팹의 요구 사항을 충족하도록 설계된 300mm 및 200mm 웨이퍼용 차세대 자동화된 마스크 얼라이너 플랫폼입니다.
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자동화된

MA200 Gen3

대량 생산을 위해 특별히 설계된 MA200 Gen3 마스크 얼라이너는 최대 200mm 웨이퍼의 자동 공정에 적합합니다.
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자동화된

MA12 Gen3

어드벤스드 패키징, MEMS 및 임프린트 리소그래피 애플리케이션을 위한 최대 300mm 웨이퍼의 마스크 얼라이언스를 위한 반자동 시스템입니다.
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반자동

MA/BA Gen4 시리즈

SUSS의 반자동 마스크 및 본드 얼라이너의 새로운 플랫폼 시스템: 두 가지 시스템 유형인 MA/BA Gen4와 MA/BA Gen4 Pro는 구성이 다르며 표준 공정 또는 고급 및 하이엔드 공정을 위해 설계되었습니다.
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반자동

MJB4

사용하기 쉽고 컴팩트한 사이즈: SUSS' MJB4는 실험실 및 최대 100mm의 기판과 조각의 소량 생산에 완벽한 시스템입니다.
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자동화된

UV-SFT 시리즈

마이크로 및 나노 임프린팅 리소그래피용 고품질 작업용 스탬프를 빠르고 정밀하게 제작할 수 있는 소형 스탬프 제작 툴(Tool)입니다.
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UV SFT Series
자동화된

SUSS' 마스크 얼라이먼트 시스템

주요 이점

탁월한 오버레이 정확도

미크론 수준의 정밀도: SUSS' 마스크 얼라이너는 다양한 기판에서 탁월한 오버레이 정확도를 보장하여 결함을 최소화하고 패턴 충실도를 보장합니다. 얇은 레지스트부터 두꺼운 레지스트까지 재현 가능한 결과를 제공하여 어드벤스드 패키징(Advanced Packaging), MEMS, 광학 등의 벤치마크를 설정합니다.

신속한 처리

더 높은 처리량, 더 빠른 결과물: 최적화된 광학 장치와 스마트 자동화를 통해 마스크 얼라이먼트 시스템은 사이클 타임을 단축하고 워크플로를 간소화하여 복잡한 기판도 빠르고 안정적으로 처리할 수 있습니다.

확장 가능한 유연성

변화하는 요구, 새로운 재료, 응용 분야 또는 생산량에 빠르게 적응: 생산 요구 사항에 따른 모듈식 구성, 옵션 기능 및 원활한 이송을 통해 당사의 마스크 얼라이먼트 시스템은 일관된 성능과 미래에 대비한 리소그래피 솔루션을 보장합니다.

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정밀한 사전 얼라인먼트를 위한 통합 계측 기술

통합 계측 기능은 모든 조건에서 안정적인 웨이퍼 사전 정렬 및 노치 감지를 보장합니다. 이 모듈은 첨단 이미지 처리와 적응형 조명을 통해 정확성, 안정성 및 일관된 공정 결과를 보장합니다.

에지 결함 내성

정밀한 사전 정렬 센터링으로 가장자리 결함이나 노치 손상 시에도 얼라인먼트 안정성을 극대화합니다.
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최적의 노치 제어

브라이트필드 및 암시야 모드가 다양한 웨이퍼 기판에서 정밀한 노치 감지를 보장합니다.
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