모든 조건에서 신뢰할 수 있는 마스크 얼라인먼트(Alignment)
마스크 얼라인먼트(Alignment)
SUSS의 마스크 얼라이너는 뛰어난 얼라인먼트(Alignment) 정확도와 첨단 노광 광학계를 결합하여 가장 까다로운 리소그래피 과제를 해결합니다. 최대 300mm 기판용으로 설계된 이 제품은 R&D에서 대량 제조에 이르기까지 모든 규모의 다양한 애플리케이션에서 안정적인 오버레이, 높은 수율 및 신뢰할 수 있는 결과를 제공합니다.
모든 조건에서 신뢰할 수 있는 마스크 얼라인먼트(Alignment)
SUSS의 마스크 얼라이너는 뛰어난 얼라인먼트(Alignment) 정확도와 첨단 노광 광학계를 결합하여 가장 까다로운 리소그래피 과제를 해결합니다. 최대 300mm 기판용으로 설계된 이 제품은 R&D에서 대량 제조에 이르기까지 모든 규모의 다양한 애플리케이션에서 안정적인 오버레이, 높은 수율 및 신뢰할 수 있는 결과를 제공합니다.

모든 기판에 대한 정밀도 높은 얼라인먼트(Alignment)
SUSS' 마스크 얼라이먼트 시스템
미크론 수준의 정밀도: SUSS' 마스크 얼라이너는 다양한 기판에서 탁월한 오버레이 정확도를 보장하여 결함을 최소화하고 패턴 충실도를 보장합니다. 얇은 레지스트부터 두꺼운 레지스트까지 재현 가능한 결과를 제공하여 어드벤스드 패키징(Advanced Packaging), MEMS, 광학 등의 벤치마크를 설정합니다.
더 높은 처리량, 더 빠른 결과물: 최적화된 광학 장치와 스마트 자동화를 통해 마스크 얼라이먼트 시스템은 사이클 타임을 단축하고 워크플로를 간소화하여 복잡한 기판도 빠르고 안정적으로 처리할 수 있습니다.
변화하는 요구, 새로운 재료, 응용 분야 또는 생산량에 빠르게 적응: 생산 요구 사항에 따른 모듈식 구성, 옵션 기능 및 원활한 이송을 통해 당사의 마스크 얼라이먼트 시스템은 일관된 성능과 미래에 대비한 리소그래피 솔루션을 보장합니다.

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