Zuverlässige Maskenausrichtung unter allen Bedingungen
Die Mask Aligner von SUSS kombinieren überragende Ausrichtungsgenauigkeit mit fortschrittlicher Belichtungsoptik, um auch die schwierigsten lithografischen Herausforderungen zu meistern. Sie wurden für Substrate bis zu 300 mm entwickelt und liefern stabile Overlays, hohe Ausbeute und zuverlässige Ergebnisse in den unterschiedlichsten Anwendungen - von der Forschung und Entwicklung bis zur Großserienfertigung.
Präzise Ausrichtung für jedes Substrat
SUSS Mask Alignment Systeme
Präzision im Mikrometerbereich: Die Mask Aligner von SUSS garantieren eine überragende Overlay-Genauigkeit auf unterschiedlichen Substraten, minimieren Defekte und gewährleisten Mustertreue. Von dünnen bis zu dicken Resists liefern sie reproduzierbare Ergebnisse und setzen damit den Maßstab für fortschrittliches Packaging, MEMS, Optik und mehr.
Höherer Durchsatz, schnellere Ergebnisse: Mit optimierter Optik und intelligenter Automatisierung verkürzen die Mask Alignment-Systeme die Zykluszeiten und optimieren die Arbeitsabläufe, so dass selbst komplexe Substrate schnell und zuverlässig bearbeitet werden können.
Passen Sie sich schnell an neue Anforderungen, neue Materialien, Anwendungen oder Produktionsvolumina an: Mit modularen Konfigurationen, optionalen Funktionalitäten und nahtlosem Transfer aufgrund Ihrer Produktionsanforderungen gewährleisten unsere Mask Alignment-Systeme eine gleichbleibende Leistung und zukunftssichere Lithografielösungen.
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