あらゆる条件下で信頼性の高いマスクアライメントを実現
マスクアライメント
SUSSマスクアライナは、優れたアライメント精度と露光光学系を組み合わせ、リソグラフィの最も困難な課題に対応します。300mmまでの基板に対応し、安定したオーバーレイ、歩留まり、信頼性の高い結果を、研究開発から大量生産まで、あらゆる規模の多様なアプリケーションに提供します。
あらゆる条件下で信頼性の高いマスクアライメントを実現
SUSSマスクアライナは、優れたアライメント精度と露光光学系を組み合わせ、リソグラフィの最も困難な課題に対応します。300mmまでの基板に対応し、安定したオーバーレイ、歩留まり、信頼性の高い結果を、研究開発から大量生産まで、あらゆる規模の多様なアプリケーションに提供します。

あらゆる基板に対応するアライメント精度
SUSSマスクアライメントシステム
ミクロンレベルの精度:SUSSマスクアライメントは、様々な基板への優れたオーバーレイ精度を保証し、欠陥を最小限に抑え、パターン忠実度を保証します。薄いレジストから厚いレジストまで、再現性の高い結果を提供し、先進パッケージング、MEMS、光学などのベンチマークを設定します。
より高いスループット、より速い結果:最適化された光学系とスマートな自動化により、マスクアライメントシステムはサイクルタイムを短縮し、ワークフローを合理化することで、複雑な基板でも高速で信頼性の高い処理を可能にします。
進化する要求、新しい材料、アプリケーション、または生産量に迅速に対応します。モジュール構成、オプション機能性、および生産ニーズによるシームレスな移行により、当社のマスクアライメントシステムは、一貫した性能と将来対応可能なリソグラフィソリューションを保証します。

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