投影扫描光刻机

以精确对准和高精曝光镜头闻名于世的 SUSS MicroTec 接近接触式光刻机产品组合以独特的解决方案进一步充实投影光刻领域:投影扫描光刻平台 DSC 集全场光刻技术与投影光刻成像性能的所有优点于一身,从而成为极具成本效益的投影步进机替代方案 。设备配有一个全场掩模和一个宽带投影镜头,以独特的连续扫描模式对衬底进行曝光。

本平台适用于先进封装,尤其是圆晶级芯片尺寸封装和倒装芯片封装,以及三维集成、MEMS 和显示器。

 

自动系统

DSC300 Gen2 Projection Scanner

High Performance Projection Scanner for 300 mm Wafers

 

半自动

DSC500 Projection Scanner

投影扫描器 DSC500

 

 

工艺技术

在投影曝光工艺中,也要将掩模与圆晶先对齐,但掩模上的图案是通过位于掩模和圆晶之间的光学镜头投影到圆晶上的。 通常情况下,每次投影只能使圆晶的一部分曝光。 通过分步骤的重复投影(分布重复),或者连续的工艺(扫描)之后,才能使整个圆晶都得到曝光。 投影镜头系统的型号和特征决定了分辨率和聚焦深度,从而决定了曝光的工作效率。

SUSS MicroTec 公司的投影扫描技术将全场曝光和传统的投影光刻技术的优点集于一身,为掩模对准器和传统投影步进机提供了一个新选择。 在投影扫描的过程中,将一个全场掩模在衬底上对准,然后通过一个扫描过程投影到衬底上。 对于步进机来说,扫描技术以更低的系统成本达到更高的生产能力,分辨率能达到3微米。  
投影扫描尤其在分辨率要求高的工艺、有凹凸图形或者光致抗蚀剂较厚的工艺中特别具有优势。 

我们的客户可以从中得到以下好处

  • 一个成本效益明显的投影解决方案,极佳的分辨率,能到3微米。
  • 厚胶工艺中也能得到垂直的胶层侧面

选项:

全自动

半自动

技术文件
服务