光罩加工平台

ASx 系列 光罩加工平台

最大化良率與品質:ASx 系列是全自動化的光罩加工平台,可在單一系統中進行先進的烘烤、光阻剝離清洗、烘烤與顯影製程,適用於 250 奈米至 65 奈米晶圓。

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傑出的效能、精巧的設計

ASx 系列結合了業界領先的精準度與最高的可靠性和效能,可因應 248 奈米和 193 奈米光刻所暴露的光罩無瑕疵製程中嚴格挑戰。兼具卓越的清洗效率和極致的經濟效益。

同級產品中最佳的清洗良率

ASx 系列具有首道清洗良率,可延長光罩使用壽命,並藉由業界首經證實的清洗技術降低生產成本。

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領先業界的佔地面積

佔地面積小:ASx 系列的尺寸為 1200 × 1200 mm,可實現最大的空間利用率和更低的擁有成本 - 不影響優質的處理效能。

最先進的烘烤技術

先進的烘烤技術可達到 14 奈米或更高的工藝節點,確保光罩符合下一代光刻應用最嚴苛的規格要求。

智慧自動化

集群式設計搭配整合式先進曝光後烘烤 (AEP)、化學過濾、精準氣候控制和監控功能,可確保高度受控的 PEB 步驟,確保最大的製程穩定性、可靠的結果和優異的光罩品質。

精密工程與卓越製造的完美結合

ASx 系列光罩加工平台的主要特色

ASx 系列透過智慧型溫度控制、自動化製程最佳化及瑕疵最小化顯影液技術,提供毫不妥協的技術效能,進而將複雜的光罩加工轉換為一致的業界領先成果。

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25 區加熱板系統

智慧型的加熱板系統可在平均溫度上升期間及目標溫度下,使光罩表面的溫度精確均勻,確保最佳的曝光後烘烤及高品質的結果。

自動流程最佳化

內建演算法可自動微調 90 - 130 °C 的烘烤效能,確保精確的 CD-mean-to-target控制及高品質的光罩一致性。

最低瑕疵的顯影液

A+ 噴灑系統/噴灑裝置可將顯影液均勻地分佈在整個光罩上,同時主動式脫氣可防止微氣泡 - 確保瑕疵最小、良率最高。

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