光掩模加工平台
ASx 系列 光掩模加工平台
最大化良率與品質：ASx 系列是全自動化的光掩模加工平台，可在單一系統中進行先進的烘烤、光刻胶剥离清洗、烘烤與顯影製程，適用於 250 奈米至 65 奈米晶圓。
HMx 系列
半自動化解決方案，適用於光罩與高難度半導體應用的試產與小量生產。
了解更多
傑出的效能、精巧的設計
ASx 系列結合了業界領先的精準度與最高的可靠性和效能，可因應 248 奈米和 193 奈米光刻所暴露的光罩的無瑕疵製程的嚴重挑戰。所有這些都具有卓越的清洗效率和無與倫比的擁有成本。
領先業界的佔地面積
佔地面積小：ASx 系列的尺寸為 1200 × 1200 mm，可實現最大的空間利用率和更低的擁有成本 - 不影響優質的處理效能。
精密工程與卓越製造的完美結合
ASx 系列光掩模加工平台的主要特色
ASx 系列透過智慧型溫度控制、自動化製程最佳化及瑕疵最小化顯影液技術，提供毫不妥協的技術效能，進而將複雜的光掩模加工轉換為一致的業界領先成果。
下載
想要瞭解更多詳細資訊？請點選以下連結，下載技術資料表和深入產品資訊的產品簡報。
