先进的清洁技术，实现最高良率

光掩膜清洁系统

SUSS' 光掩膜清洁系统可提供安全的纳米级精度，保护脆弱的 EUV 和 DUV 掩膜，同时提高良率。我们的解决方案集效率、可持续性和工艺稳定性于一身，适用于各种级别和规模的掩模清洁，可保护精密特征并延长掩模寿命。

咨询专家
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无损的纳米清洁

精确。可扩展。可持续发展。SUSS' 纳米清洁技术可保护图案、减少化学品用量，并在所有加工层次上最大限度地提高光掩模加工良率。

顶级 产品

了解我们的顶级产品

HMx 系列

半自动化解决方案，适用于光罩和高难度半导体应用的中试和小批量生产。
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半自动

ASx 系列

全自动光掩模加工平台，用于在 250-65 纳米晶圆上进行高级烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤与显影。
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自动化
10 纳米以下颗粒去除率

安全、彻底的清洁和良好的掩膜良率：SUSS' 专有的非接触式清洁技术可清除 EUV 和 ArF 掩模上的纳米级颗粒，而不会触及易碎特征，从而确保先进光掩模图案的完整性。

干湿混合清洗

无与伦比的杂质清除能力：通过结合干法和湿法清洁工艺的优势，SUSS' 系统保证了效率、无损操作以及与多种光掩模加工材料的兼容性。

减少化学品的生态效益

在不牺牲性能的前提下尽量减少化学品用量：生态高效设计可减少对环境的影响，延长掩模寿命，支持可持续运营，同时满足现代光刻技术最严格的要求。

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掩膜质量控制计量

清洁前后的彻底检测、污染物的早期检测以及后处理验证图案：SUSS' 系统可保障掩膜质量、防止过度清洁并缩短质量保证周期，从而延长宝贵的光掩膜的使用寿命。

智能清洁控制

智能表面监测可在清洁前检查面罩，检测颗粒或雾度，防止不必要的清洁。
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图案完整性保证

根据参考图案验证清洁后的掩模，确保掩模的完整性和更快的重新鉴定。
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