歩留まりを最大化する高度な洗浄技術

フォトマスク洗浄装置

SUSSのフォトマスククリーニングシステムは、安全でナノスケールの精度を実現し、歩留まりを向上させながら、壊れやすいEUVおよびDUVマスクを保護します。デリケートな特徴を保護し、マスク寿命を延ばすSUSSのソリューションは、効率性、持続可能性、プロセスの安定性を兼ね備え、あらゆるレベルと規模のマスク洗浄に対応します。

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妥協のないナノ洗浄

高精度。スケーラブル。持続可能。*SUSSナノ洗浄は、パターンを保護し、化学薬品を削減し、すべてのプロセスレベルでフォトマスク処理の歩留まりを最大化します。

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HMxシリーズ

フォトマスクや難易度の高い半導体アプリケーションのパイロット生産および少量生産向けの半自動ソリューション。
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半自動式

ASxシリーズ

ウェハーの高度なベーク、レジスト剥離、洗浄・現像のための全自動フォトマスク処理プラットフォーム。
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自動化された
10nm以下の粒子除去

安全で徹底した洗浄と高いマスク歩留まり：SUSS'独自の非接触洗浄技術は、EUVおよびArFマスクからナノスケールのパーティクルを除去し、壊れやすいフィーチャーに触れることなく、高度なフォトマスクパターンの完全性を保証します。

乾式と湿式のハイブリッド・クリーニング

比類のない汚染物質除去：ドライ洗浄とウェット洗浄の長所を組み合わせることで、SUSS'システムは効率性、ダメージフリー操作、複数のフォトマスク材料との互換性を保証します。

環境効率の高い化学物質の削減

性能を犠牲にすることなく、化学薬品の使用量を最小限に抑えます。環境効率の高い設計により、環境への影響を低減し、マスク寿命を延ばし、持続可能なオペレーションをサポートすると同時に、最新のリソグラフィの最も厳しい要件を満たします。

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マスク品質管理のための計測

洗浄前後の徹底的な検査、汚染物質の早期発見、プロセス後の検証パターン：SUSS'システムはマスクの品質を守り、過剰クリーニングを防止し、QAサイクルを短縮して貴重なフォトマスクの寿命を延ばします。

スマート・クリーニング・コントロール

インテリジェントな表面モニターがマスクのプレクリーニングを検査し、不要なクリーニングを防ぐためにパーティクルやヘイズを検出します。
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パターン完全性の保証

洗浄後のマスクを基準パターンに照らして検証することで、マスクの完全性を確保し、再検査を迅速化。
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17/11/2025
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