수율 극대화를 위한 첨단 세정 기술

포토마스크 세정 시스템

SUSS의 포토마스크 클리닝 시스템은 깨지기 쉬운 EUV 및 DUV 마스크를 보호하는 동시에 수율을 높이는 안전한 나노 단위의 정밀도를 제공합니다. 섬세한 기능을 보호하고 마스크 수명을 연장하는 당사의 솔루션은 모든 수준과 규모의 마스크 세척에 대해 효율성, 지속 가능성 및 공정 안정성을 결합합니다.

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성능 저하 없는 나노 클리닝

정확성. 확장 가능. 지속 가능. SUSS' 나노 세정은 모든 공정 수준에서 패턴을 보호하고 화학 물질을 줄이며 포토마스크 수율을 극대화합니다.

상위 제품

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HMx 시리즈

포토마스크 및 까다로운 반도체 애플리케이션의 파일럿 및 소규모 양산 생산을 위한 반자동 솔루션입니다.
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반자동

ASx 시리즈

250-65nm 웨이퍼의 고급 베이크, 레지스트 스트립, 세정 및 현상을 위한 완전 자동화된 포토마스크 공정 플랫폼입니다.
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자동화된
10nm 미만 입자 제거

안전하고 철저한 세척과 높은 마스크 수율: SUSS의 독점적인 비접촉식 세정 기술은 깨지기 쉬운 피처를 건드리지 않고 EUV 및 ArF 마스크에서 나노 크기의 입자를 제거하여 고급 포토마스크 패턴 무결성을 보장합니다.

건식 및 습식 하이브리드 청소

탁월한 오염 물질 제거: 건식 및 습식 클리닝 공정의 장점을 결합한 SUSS' 시스템은 효율성, 손상 없는 작동, 여러 포토마스크 재료와의 호환성을 보장합니다.

친환경적인 화학 물질 감소

성능 저하 없이 화학 물질 사용 최소화: 친환경적인 설계로 환경에 미치는 영향을 줄이고 마스크 수명을 연장하며 지속 가능한 운영을 지원하는 동시에 최신 리소그래피의 가장 엄격한 요구 사항을 충족합니다.

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마스크 품질 관리를 위한 계측

세척 전후의 철저한 검사, 오염 물질의 조기 검출 및 후공정 검증 패턴: SUSS 시스템은 마스크 품질을 보호하고, 과세척을 방지하며, QA 주기를 단축하여 귀중한 포토마스크의 수명을 연장합니다.

스마트 세정 제어

지능형 표면 모니터링은 마스크의 사전 세척을 검사하여 입자나 연무를 감지하여 불필요한 세척을 방지합니다.
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패턴 무결성 보장

세척 후 마스크를 기준 패턴에 맞춰 검증하면 마스크 통합과 빠른 재검증을 보장합니다.
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