先進的清洗技術可達到最高良率

光罩清洗系統

SUSS' 光罩清洗系統提供安全、奈米級的精密度，可保護脆弱的 EUV 和 DUV 光罩，同時提高良率。我們的解決方案結合效率、永續性和製程穩定性，適用於各種層級和規模的掩模清洗，可保護脆弱的功能並延長掩模的壽命。

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不折不扣的奈米清洗

精確。可擴充。可持續發展。 SUSS' 奈米清洗可在所有製程層面保護圖案、減少化學藥品用量，並使光掩模加工良率最大化。

頂級 產品

探索我們的頂級產品

HMx 系列

半自動化解決方案，適用於光罩與高難度半導體應用的試產與小量生產。
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半自動

ASx 系列

全自動光掩模加工平台，可在 250-65 奈米晶圓上進行先進的烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤與顯影。
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自動化
10 奈米以下微粒去除率

安全、徹底的清潔和高光罩良率：SUSS' 專利的非接觸清潔技術可清除 EUV 和 ArF 掩膜上的奈米級微粒，而不會碰觸易碎的特徵，確保先進光掩模圖案的完整性。

乾濕混合清洗

無與倫比的污染物清除能力：結合乾式與濕式清洗製程的優勢，SUSS' 系統可保證高效率、無損壞的操作，並與多種光掩模加工材料相容。

減少化學品的生態效益

在不犧牲效能的前提下，盡量減少化學品用量：環保高效的設計可減少對環境的影響、延長掩模壽命，並支援永續經營，同時符合現代光刻技術最嚴格的要求。

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光罩品質控制計量

清潔前後的徹底檢測、污染物的早期偵測以及後製程驗證圖案：SUSS' 系統可保障光罩品質、防止過度清洗並縮短 QA 周期，延長寶貴光罩的使用壽命。

智慧型清潔控制

智慧型表面監控可在清潔前檢查面罩，偵測微粒或灰霧，避免不必要的清潔。
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圖案完整性保證

根據參考圖形對清洗後的掩模進行驗證，確保掩模的完整性和更快的重新驗證。
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