Fortschrittliche Reinigungstechnologie für maximale Ausbeute
Die Photomasken-Reinigungssysteme von SUSS bieten sichere Präzision im Nanobereich, die empfindliche EUV- und DUV-Masken schützt und gleichzeitig die Ausbeute erhöht. Unsere Lösungen schützen empfindliche Merkmale und verlängern die Lebensdauer der Masken. Sie vereinen Effizienz, Nachhaltigkeit und Prozessstabilität für jede Stufe und jeden Maßstab der Maskenreinigung.
Nano-Reinigung ohne Kompromisse
Sichere, gründliche Reinigung und hohe Maskenausbeute: Die von SUSS entwickelte berührungslose Reinigungstechnologie entfernt nanoskalige Partikel von EUV- und ArF-Masken, ohne die empfindlichen Strukturen zu berühren, und gewährleistet so die Integrität der hochentwickelten Fotomaskenmuster.
Unübertroffene Entfernung von Verunreinigungen: Durch die Kombination der Vorteile von Trocken- und Nassreinigungsverfahren garantieren die SUSS Systeme Effizienz, beschädigungsfreien Betrieb und Kompatibilität mit verschiedenen Fotomaskenmaterialien.
Minimierung des Chemikalienverbrauchs ohne Leistungseinbußen: Das ökoeffiziente Design reduziert die Umweltbelastung, verlängert die Lebensdauer der Maske und unterstützt einen nachhaltigen Betrieb, während es gleichzeitig die strengsten Anforderungen der modernen Lithografie erfüllt.
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