半自動マスクアライナとインプリント

MA12 Gen3 マスクアライナ

MA12 Gen3は、300mmまでのウェーハに対応する半自動マスクアライナで、実績のあるリソグラフィと先進のインプリント処理を組み合わせています。コスト効率の高い露光、高いオーバーレイ精度、MEMS、先進パッケージング、研究開発向けの柔軟なプロセスを実現します。

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柔軟なリソグラフィと容易な操作

MA12 Gen3は、産業用R&Dから中~大規模生産環境まで対応する汎用性の高いリソグラフィ機能を備えています。 コンパクトなデザインはクリーンルームの省スペース化を実現し、直感的なハンドリングは操作を簡素化します。SUSSの最新技術を搭載したマスクアライメントは、安定した高品質な結果を保証し、スタンダード、アドバンス、ハイエンドの各プロセスにおいてインプリント処理機能を向上させました。

インプリントの多様性

先進パッケージング、MEMS、ナノパターニングの標準からハイエンドまでのインプリントプロセスに対応:著名なSMILEテクノロジーを採用したMA12 Gen3は、3Dインテグレーション、化合物半導体、LED、マイクロオプティクス、AR、オプトエレクトロニクス・センサにおけるフルフィールドリソグラフィの高精度処理を実現します。

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コンパクト設計、簡単操作

MA12 Gen3のコンパクトなフットプリントは、ユーザーフレンドリーな操作性を提供しながら、コストのかかるクリーンルームのスペースを節約します。簡単にアクセスできるコンポーネント、LED光源、有名なSUSS MO露光光学系®は、メンテナンスを最小限に抑え、リモートサービス機能は、迅速で費用対効果の高い問題解決を保証します。

自動化された精度

一定ドーズモード、自動露光コントロール、自動アライメントによるスマートな自動化により、プロセスパラメータが最適化され、優れた結果が得られます。直感的なレシピエディタと洗練されたデータロギングにより、パイロットラインや研究開発アプリケーションの安定性を最大限に高めます。

要求されるアプリケーションに対応する卓越したパフォーマンス

MA12 Gen3 の主な特長

MA12 Gen3は、歩留まりを最大化し、厳しい条件下でも再現性の高い結果を保証します。強化されたウェーハレベリングやMO露光光学系から、反りウェーハや高感度材料に特化したハンドリングまで、すべての機能が信頼性と性能のために設計されています。

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SUSSレベリングシステムの強化

SUSSの先進的なレベリングシステムは、スタッキング中にリアルタイムで直接ギャップ測定を行い、基板、マスク、スタンプ間の高精度な平行度を実現し、最適なコンタクトとアライメント精度を保証します。

優れた光均一性

MO露光光学系®は、SUSS'独自のマイクロレンズベースの照明で、卓越した均一性と大きなプロセスウィンドウでテレセントリック露光を実現します。プラグアンドプレイの角度設定と切り離された光源設計は、ランプ寿命を通じて安定した性能を保証しながら、メンテナンスを最小限に抑えます。

反りや傷つきやすい素材のハンドリングを最適化

専用ツールキットは、反りウェーハや反り基板でも効果的なアライメントをサポートします。真空チャック、ソフトコンタクト/近接露光装置、適応可能な露光光学系(トップサイド、ボトムサイド、IR)により、壊れやすい材料をストレスやダメージから守ります。

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