MA200 Gen3 マスクアライナ

要求の厳しいオーバーレイのために、MA200 Gen3は業界標準のPatMaxを備えたDirectAlign®を搭載しています。保存されたパターンの代わりにライブ画像を使用することで、0.5µm以下のトップサイドアライメント精度を実現し、大量生産アプリケーションに理想的な卓越したプロセス安定性と繰り返し精度を保証します。

SUSS´ MO露光光学系® は、比類のない安定性で均一な配光を実現します。プラグアンドプレイ設計により、HRモードとLGOモードの素早い切り替えが可能で、テレセントリック照明によりプロセスウィンドウが広がります。カスタマイズ可能なフィルターと小型ウェハー用のダウンサイジングキットにより、システムは多様な生産要件に迅速に適応します。

MA200 Gen3は、あらゆるプロセスニーズに対応する複数の露光モードをサポートしています。近接露光装置は、3.5 µmまでの微細構造を高速かつコスト効率よく実現し、接触露光と真空露光は、0.8 µm以下のサブミクロン精度を達成します。MEMS、パッケージング、イメージセンサーのいずれのアプリケーションにおいても、この汎用性により、スループットを損なうことなく、柔軟性と高解像度の両立を実現します。

SUSSの補正システム^ThermAlign ®は、加工中のチャックとマスクの温度を安定させ、熱ランアウトをリアルタイムで抑制します。変化するプロセス条件に適応することで、長時間の生産においても安定したオーバーレイ精度と歩留まりの向上を実現します。