HMx Series

HMxSquare は、その現像機能性、エッチング機能性、洗浄機能性において、フォトマスク分野や、オプトエレクトロニクス、OELD、特殊な半導体後工程(MEMS)分野における用途に、高品質の基板処理を提供しています。

HMxSquare は、手動操作により、少量生産または特殊な基板のパイロット生産も可能です。装置は、独自の HMx シリーズの実証済みの安定性と信頼性により、電子制御機能、新しい洗浄方法に可能性、環境保護並びに労働安全技術にマッチします

Highlights

3 um ~ 250 nm領域のメソッド

最新のエレクトロニクスとソフトウェア

安全なハンドリングのための多様なチャック

ケミカルの安全な保管

ハウジングの設置面が 960 x 1120 mm 、溶媒保管の設置面が 300 x 1070 mm

高い生産性

省フットプリント

SUSS MicroTec Photomask Equipment HMX Square
  • Chrome and chrome oxide photomask up to 14”
  • Si wafers up to 300 mm
  • III/V semiconductor wafers (e.g. GaAs, InP)
  • Special substrates up to 300mm
  • Aqueous-based develop
  • Binary and/or fan spray nozzle
  • DI water rinse
  • Spin dry
  • Sulfuric acid for surface preparation
  • SPM for organic removal
  • Brush cleaning for coarse particle removal
  • 1 MHz megasonic cleaning
  • Full jet spray
  • ESD-safe cleaning
  • Hot DIW final rinse
  • Spin dry
  • Aqueous-based etch
  • Fan spray or puddle
  • DI water rinse
  • Spin dry
  • SEMI S2, S8, S13 compliant
  • CE marked
  • Conform to European harmonized standards and machine directive 2006/42/EC, EMC directive 2004/108/EC and low voltage directive 2006/95/EC
  • Ready for factory automation via SECS/GEM 200 mm standard interface
Technical Publications
Service